（熱等離子體）在實(shí)際的熱等離子體發(fā)生器中，電弧噴鋅附著(zhù)力要求流入的工作氣體通過(guò)陰極和陽(yáng)極之間的電弧放電效應電離，輸出等離子體以射流的形式，即等離子射流（大氣壓射流）等離子體）、等離子射流）、等離子射流（等離子炬）等。另一方面，幾百Pa以下的低壓等離子體往往處于非熱力學(xué)平衡狀態(tài)，電子與離子或中性粒子碰撞時(shí)幾乎沒(méi)有能量損失，因此，TE>>TI，TI>>有田納西州。 這種等離子體稱(chēng)為低溫等離子體（COLD PLASMA）。

已知閃爍的電極、星云和星際空間存在于 1300 攝氏度左右的溫度下。這是與鐵水溫度相當的溫度。電弧等離子體和高頻等離子體因其高能量而被稱(chēng)為熱等離子體，電弧噴鋅附著(zhù)力要求用于材料合成、致密化和涂層保護。低溫等離子體重粒子的溫度僅為室溫，但電子的溫度可達到幾十萬(wàn)度，遠離熱平衡狀態(tài)，特別適用于電弧放電、輝光等制造設備釋放。屬于冷等離子類(lèi)型。。

常壓型等離子技術(shù)是用來(lái)產(chǎn)生常壓等離子體來(lái)進(jìn)行表面處理。等離子體系統的核心部分是等離子槍和等離子發(fā)生器。 該槍采用高壓放電方式，電弧噴鋅附著(zhù)力要求在plasma設備等離子槍中產(chǎn)生常壓等離子體，經(jīng)過(guò)氣流將等離子體聚集在放電槍頭上，使之進(jìn)入所需加工的材料表面。噴槍將等離子流電弧限制在噴嘴內。噴管同時(shí)決定等離子束的幾何形狀。 plasma設備經(jīng)過(guò)氧化反應過(guò)程清潔表面，除去表面靜電，達到精細清洗效果。

工業(yè)上應用的電弧等等離子體發(fā)生器的主要技術(shù)指標是功率、效率和連續使用壽命。一般其輸出功率范圍為10～10瓦,效率較高(約為50%～90%)，電弧噴鋅附著(zhù)力不好使用壽命受電極壽命限制。由于電極受活性工作氣（氧、氯、空氣）的侵蝕,炬的連續壽命一般不超過(guò)200小時(shí)；備有補充電極的電弧等離子體發(fā)生器，壽命可達數百小時(shí)。

電弧噴鋅附著(zhù)力不好

由于電極的曲率半徑小，電極附近的電場(chǎng)特別強，容易發(fā)生電子發(fā)射和氣體電離，形成電暈。這種方法不易獲得穩定的電暈放電，容易引起局部電弧放電和放電能量不均勻。當大氣中的空氣暴露于各種電勢時(shí)，就會(huì )發(fā)生放電，中性分子與構成電壓的帶電分子發(fā)生碰撞，從而產(chǎn)生雪崩效應。碰撞后，中性分子帶電，形成高負荷區域或“閃電”。這會(huì )產(chǎn)生臭氧和氮氧化物的重氧化物混合物。在兩個(gè)電極之間放置絕緣體以避免雪崩效應。

在人工產(chǎn)生等離子體的方法中，氣體放電法比加熱法簡(jiǎn)單高效，如熒光燈、霓虹燈、電弧焊、電暈放電等。自然和人工產(chǎn)生的各種主要類(lèi)型等離子體的密度和溫度值從密度為106（單位：?jiǎn)挝?立方米）的稀薄星際等離子體到密度為1025的電弧放電等離子體，跨越了近20個(gè)數量級。溫度分布范圍從K的低溫到108-109K(1～10億度）超高溫核聚變等離子體。

1種汽體滲透到一個(gè)或多個(gè)附加汽體時(shí)，這類(lèi)元素的混合氣體的混合氣就會(huì )產(chǎn)生我們想要的腐蝕和清潔效果(果)。使用等離子體設備中的離子或高活性原子，使表面污染物撞擊或形成揮發(fā)性汽體，再通過(guò)真空系統帶走，以達到凈化表面的目的。 在高頻率電磁場(chǎng)中，空氣中的氧，如甲烷。水蒸汽等汽體分子在電弧放電的情況下，能細化出在快速電磁場(chǎng)中位于低氣壓狀態(tài)的氧。

由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不受二次污染。。氣體放電分為直流放電和交流放電。直流放電通常指低頻放電。由于氣體中電子數、碰撞頻率、粒子擴散和傳熱速率的不同，當氣壓和電流的范圍不同時(shí)，會(huì )發(fā)生暗電流、輝光放電和電弧放電區域。

電弧噴鋅附著(zhù)力不好

宇宙中99%以上的物質(zhì)都是以等離子體的形式存在于像太陽(yáng)這樣的恒星中。在實(shí)驗條件下產(chǎn)生等離子體的方法有很多，電弧噴鋅附著(zhù)力要求其中最重要、最常用的方法是氣體放電。近年來(lái)，隨著(zhù)等離子體技術(shù)的成熟，常壓氣體放電逐漸發(fā)展起來(lái)，與低壓氣體放電相比，常壓氣體放電無(wú)需復雜的真空系統，使成本大大降低。目前實(shí)驗室常用的大氣放電有輝光放電、介質(zhì)阻擋放電、電暈放電和滑動(dòng)電弧放電、火花放電、射頻等離子體和微波等離子體。