(4) 等離子發(fā)生器的運行時(shí)間不能超過(guò)使用說(shuō)明書(shū)中描述的時(shí)間范圍。此外,等離子表面處理機設備的風(fēng)道必須通風(fēng)良好。否則,設備的燃燒器會(huì )燒壞,造成損失。 (5)等離子清洗機在維護或保養過(guò)程中,必須先關(guān)閉等離子發(fā)生器的電源,然后再進(jìn)行相關(guān)的維護工作。等離子表面處理機 氣體團簇離子束蝕刻技術(shù) 等離子表面處理機 氣體團簇離子束蝕刻技術(shù): 等離子表面處理機 氣體團簇離子束蝕刻具有常規等離子蝕刻所沒(méi)有的一系列功能。

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氣體的持續通電進(jìn)一步加速了氣體中分子的運動(dòng),等離子表面處理機形成了一種稱(chēng)為第四物質(zhì)的新的聚集態(tài),如離子、自由電子、激發(fā)分子、高能分子碎片等。物質(zhì)狀態(tài) & MDASH; & MDASH; & LDQUO; 等離子體狀態(tài) & RDQUO ;.常壓等離子表面處理機在常壓下產(chǎn)生等離子對產(chǎn)品表面進(jìn)行處理。在等離子炬中,大氣等離子將空氣或其他工藝氣體引入炬中,并引入高頻高壓電流以激發(fā)氣體。

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這有助于保護環(huán)境。 (3) 使用高頻產(chǎn)生的無(wú)線(xiàn)等離子在高頻范圍內沒(méi)有方向性,青海小型真空等離子表面處理機廠(chǎng)家報價(jià)多少錢(qián)可以穿透物體的微小孔洞和凹痕,特別適用于清潔盲孔。 (4) 整個(gè)清洗過(guò)程需要幾分鐘時(shí)間。 (5)等離子清洗的技術(shù)特點(diǎn)如下。無(wú)論加工對象如何,都可以加工各種基板。金屬、半導體、氧化物和聚合物材料(例如聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂和其他聚合物等離子表面處理機)可以用等離子處理。

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n12 + 188.25 n13) kJ/mol (4-5) 在式(4-5)中,n11、n2和n3分別表示以下。 n11為C2烴產(chǎn)物中C2H6的摩爾分數,mol/%,n12為C2烴產(chǎn)物中C2H4的摩爾分數,mol/%;n13為C2烴產(chǎn)物中C2H2的摩爾分數,比率為摩爾/%。

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