等離子體處理技術(shù)是利用等離子體的特殊特性的具體應用:等離子體處理系統生產(chǎn)的等離子體裝置是設置在一個(gè)密閉容器內，不同材質(zhì)的附著(zhù)力兩個(gè)電極用真空泵形成電場(chǎng)以達到一定的真空程度，隨著(zhù)氣體變得越來(lái)越薄，分子間距和自由運動(dòng)的分子或離子之間的距離也越來(lái)越長(cháng),電場(chǎng),它們碰撞,形成等離子體,這些離子的活性非常高,它的能量就足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,使化學(xué)反應在任何暴露的表面,不同的氣體等離子體具有不同的化學(xué)性質(zhì)，如氧等離子體具有高氧化性，可以氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體等離子體具有良好的各向異性，因此可以滿(mǎn)足腐蝕的需要。

等離子體裝置內可能發(fā)生各種化學(xué)反應，不同材質(zhì)的附著(zhù)力主要與電子的平均勢能、電子密度、溫度、廢氣的分子濃度和共存氣體成分有關(guān)。非平衡等離子體處理污染控制技術(shù)：等離子輔助處理技術(shù)可以減少空氣污染對環(huán)境的危害。血漿功能產(chǎn)生更多的活性成分。等離子處理技術(shù)提供了比傳統熱激發(fā)技術(shù)更具反應性的消化途徑。由于電子的勢能分布不平衡，與非平衡等離子體中重粒子的分布不同，可以認為含電子氣體的溫度遠高于氣體的溫度。含有中性粒子和離子。

廣泛應用于手機電子、半導體等相對精細的配件表面處理。等離子清洗機雖然原理不同，硅膠在不同材質(zhì)上的附著(zhù)力但在實(shí)際應用中，由于每種材料的要求和特點(diǎn)，對應的是每臺等離子清洗機的設計理念和清洗工藝是不一樣的，等離子清洗機是定制產(chǎn)品，主要根據客戶(hù)需要的清潔材料和具體的要求定做。在具體的使用上，也有一些特別注意的地方。機器安裝時(shí)，需要有本機器的技術(shù)人員再教你操作，弄清楚本機器的使用說(shuō)明和注意事項，設置清洗參數。

避免晶圓之間的相互污染。在 45nm 之前，硅膠在不同材質(zhì)上的附著(zhù)力自動(dòng)清潔站能夠滿(mǎn)足清潔要求，并且至今仍在使用。 45nm以下工藝節點(diǎn)采用單片清洗設備，滿(mǎn)足清洗精度要求。隨著(zhù)未來(lái)工藝節點(diǎn)的不斷減少，單晶圓清洗設備是當今可預見(jiàn)技術(shù)中的主流清洗設備。

不同材質(zhì)的附著(zhù)力

根據清潔劑的不同，可以選擇氧氣、氫氣、氬氣或氮氣作為分貝。 3、在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，通過(guò)輝光放電將氣體分解并電離，產(chǎn)生等離子體。待處理的工件完全包裹在真空室內產(chǎn)生的等離子體中，開(kāi)始清洗。一般來(lái)說(shuō)，清洗過(guò)程持續幾十秒到幾分鐘，這取決于材料和要求。 4、清洗后，切斷高頻電壓，用真空泵除去氣體和氣態(tài)污垢。等離子與工件表面的具體作用是：等離子體與工件表面的化學(xué)反應與傳統的化學(xué)反應有很大不同。

等離子體清洗是充分利用離子、電子器件、受激原子、氧自由基和所發(fā)射的光束與清潔表面的污染物分子結構發(fā)生活化反應，從而去除污染物。在等離子體清洗機中，電子設備與原子或分子結構的碰撞也可以形成激發(fā)態(tài)的中性原子或自由基(也稱(chēng)氧自由基)。這種激發(fā)態(tài)的原子或氧自由基與污染物的分子結構出現活化反射，使污染物分離金屬表面。

離子清洗省了濕化學(xué)處理過(guò)程中不可缺少的干燥、廢水處理等工序；若與其它干處理工藝，例如輻射線(xiàn)，與電子束加工、電暈等相比，電漿清洗設備獨特的地方是，它對材質(zhì)的作用僅發(fā)生在其表面數十至數千埃厚度范圍內，不僅改變了材質(zhì)的表面特性，而且不改變本體特性。 使用等離子轟擊物體表面，可以建立物體的表面腐蝕、激活和清洗等功能。

軔致輻射是自由電子與離子之間的碰撞，即電子在庫侖場(chǎng)中隨著(zhù)離子速度的變化而產(chǎn)生的連續輻射。電子-電子碰撞不會(huì )改變電子的總動(dòng)量，因此不會(huì )產(chǎn)生軔致輻射。等離子體中的軔致輻射主要來(lái)自遠碰撞，其波長(cháng)一般在紫外到x射線(xiàn)之間。對高溫等離子體來(lái)說(shuō)，輻射損耗是一個(gè)非常重要的問(wèn)題?；夭ㄝ椛?，又稱(chēng)回旋加速輻射，是帶電粒子(主要是電子)圍繞磁力線(xiàn)旋轉時(shí)產(chǎn)生的輻射。

硅膠在不同材質(zhì)上的附著(zhù)力