等離子表面處理機的超低溫深反應離子刻蝕工藝采用平面大縱橫比結構圖案，極耳等離子體蝕刻機器使用-100℃以下連續O2等離子刻蝕和SF6等離子刻蝕產(chǎn)生的副產(chǎn)物保護層。 .空間。低溫刻蝕工藝的主要機理是獨立控制硅溝槽底部和溝槽側壁的刻蝕反應，改變陰極電壓以降低硅片基板的溫度以進(jìn)行更高的硅刻蝕。那是?？梢垣@得更高的硅蝕刻速率。高硅光刻蝕選擇性。
低溫等離子處理光纖裝置對PBO光纖表面和未處理PBO光纖表面的影響是光滑的。 PBO光纖的表面是由于等離子處理過(guò)的PBO光纖表面的蝕刻作用，極耳等離子體蝕刻增加了表面粗糙度。這也證實(shí)了處理后的PBO纖維的比表面積增加。提高 PBO 纖維的潤濕性。用大氣低溫等離子體處理PBO纖維提高了PBO纖維的潤濕性。低溫等離子處理后的PBO 纖維吸力增加，接觸角減小，表面被蝕刻，粗糙度增加，表面積增加，纖維潤濕速度加快。
使用等離子發(fā)生器進(jìn)行表面處理，極耳等離子體蝕刻機器提高了原材料表層的潤濕性，從而改善了原材料的涂層等性能，提高了原材料的附著(zhù)力和內聚力，并且（高效）可去除.增強有機（有機）污染物和原料表層的親水性。等離子發(fā)生器用塑料玩具的表面處理：可用于表面層改性、粘合強度、涂層和印刷。塑料玩具鐘由于面漆是化學(xué)惰性的，如果沒(méi)有特殊的表面處理，很難用通用粘合劑粘合和印刷。等離子發(fā)生器主要用于塑料玩具表層的蝕刻（活化）、接枝、聚合等。
但在塑料薄膜增強軟單板的制造過(guò)程中，極耳等離子體蝕刻機器界面粘合性能較差，易卷曲變形，受高溫熱壓等影響，限制了工業(yè)化生產(chǎn)和推廣。表面等離子體處理設備 等離子體是由基態(tài)和激發(fā)態(tài)的電子、離子和中性粒子組成的氣體混合物，在放電過(guò)程中產(chǎn)生大量離子，使材料表面發(fā)生物理和化學(xué)表面化。合格。它的優(yōu)點(diǎn)是清潔高效。用于等離子體重整的低溫表面等離子體處理設備可用于通過(guò)激發(fā)原子和分子、自由基和離子以及等離子體。
極耳等離子體蝕刻
常壓等離子設備技術(shù)參數如下（）： 輸入電源：AC220V，PE.50HZ（±20） 高壓線(xiàn)長(cháng)度：>170CM（可定制） 噴槍口徑：20-50MM 工作環(huán)境溫度： <42℃相對溫度≤40℃RH最大功率：≤800W（可調）輸入氣源壓力：≥0.4MPA或≥0.3MPA頻率：25KHZ輸出工作壓力：15-20KPA（可調）總主機：約12KG控制方式：內部模擬控制（可與現有自動(dòng)化系統集成啟動(dòng)短路信號） 主機尺寸：130MM（長(cháng)）*240MM（寬）*300MM（高）噴嘴加工寬度：直噴類(lèi)型：2MM、4MM、10MM；旋轉類(lèi)型：30、50、80MM 加工高度：4-15MM 火焰溫度：40℃-60℃ 金屬等材料可以增加表面能。
..整個(gè)清洗過(guò)程的成本可以通過(guò)使用昂貴的有機溶劑來(lái)降低，但是清洗力還是很高的，只需要幾分鐘就可以完成清洗。第三，適用范圍廣也是常壓等離子清洗設備的一大優(yōu)勢。您可以有效地清洗任何原材料，無(wú)論是金屬、半導體還是氧化物，并為對象設置清洗操作。部分或全部清潔也非常方便。此外，還可以提高被清洗物的表面性能，例如提高表面的潤濕性和附著(zhù)力。大氣壓等離子表面處理設備具有上述諸多優(yōu)點(diǎn)，在各個(gè)領(lǐng)域中脫穎而出。
表面清潔可以定義為去除吸附在表面上的非必要外來(lái)物質(zhì)的清潔過(guò)程，這些外來(lái)物質(zhì)會(huì )對產(chǎn)品的工藝流程和性能產(chǎn)生不利影響。清潔對于先進(jìn)制造至關(guān)重要工藝步驟。工業(yè)清洗從工件表面去除多余的材料，最大限度地減少成本和環(huán)境影響。清潔目標包括提高涂層對表面的附著(zhù)力以及提高涂漆和印刷產(chǎn)品的質(zhì)量。
改善表面潤濕性和薄膜附著(zhù)力等表面功能在許多新工藝中發(fā)揮著(zhù)重要作用。等離子清洗后的材料表面無(wú)油污，無(wú)需再加工，提高了整個(gè)工藝的加工效率。操作員可以避免有害溶劑的損壞。因此，它被完全（完全）洗滌。清潔物品不需要過(guò)多考慮形狀，也可以處理多種材料。特別適用于不耐高溫且不含溶劑的材料。因此，等離子清洗技術(shù)受到了極大的關(guān)注。等離子清洗機應用于印刷/包裝、汽車(chē)制造、生物醫藥、精密電子設備等行業(yè)，包括醫療器械領(lǐng)域。
極耳等離子體蝕刻
隨著(zhù)電壓的增加和電源頻率的增加，極耳等離子體蝕刻處理強度變?yōu)椋禾幚硇Ч?，因為它高，但是如果電源頻率太高或電極間隙太寬，電極之間會(huì )發(fā)生過(guò)多的離子碰撞，會(huì )產(chǎn)生不必要的能量。如果電極間距過(guò)小，會(huì )導致感應損耗和能量損耗。當加工溫度高時(shí)，表面特性迅速變化。處理時(shí)間越長(cháng)，極性基團越多，但如果處理時(shí)間過(guò)長(cháng)，表面可能會(huì )產(chǎn)生分解產(chǎn)物。冷等離子體裝置 [5] 在密閉容器中安裝兩個(gè)電極以產(chǎn)生電場(chǎng)，并使用真空泵實(shí)現一定程度的真空。
其次，極耳等離子體蝕刻機器高濃度的環(huán)氧乙烷與空氣混合具有爆炸性，通常使用12%的環(huán)氧乙烷和88%的氟氯烴的混合物，但氯氟烴對地球臭氧層的破壞很?chē)乐?，因此?huì )造成嚴重的破壞。上述問(wèn)題的存在限制了環(huán)氧乙烷滅菌的應用，同時(shí)也促進(jìn)了其他更先進(jìn)的醫用滅菌技術(shù)的研究和推廣?；谝陨显?，我們正在進(jìn)行低溫等離子滅菌技術(shù)的研究。低溫等離子滅菌技術(shù)的主要特點(diǎn)如下。
