這些裝置的致命缺點(diǎn)不僅是放電清洗非常不均勻，環(huán)氧樹(shù)脂對電鍍件的附著(zhù)力而且容易因有害放電而污染或損壞基材。此外，輝光放電也很不穩定，特別是當襯底移動(dòng)時(shí)，等離子體也很不穩定由于體積阻抗變化較大，這些器件很難在連續涂裝線(xiàn)中使用。近年來(lái)，公司成功開(kāi)發(fā)了年產(chǎn)4萬(wàn)噸ITO玻璃自動(dòng)化生產(chǎn)線(xiàn)。在進(jìn)行SiO2膜和ITO膜的電鍍前，安裝了一套在線(xiàn)清洗裝置，可以產(chǎn)生大面積、均勻、穩定的多面體。該裝置由防護罩、門(mén)和加速器組成。

但由于柔性材料PI不耐強堿，環(huán)氧樹(shù)脂對電鍍件的附著(zhù)力故銅沉淀前處理應采用酸性溶液。目前主要采用化學(xué)法沉銅堿性，所以反應時(shí)間和溶液濃度必須嚴格控制。如果反應時(shí)間過(guò)長(cháng)，聚酰亞胺會(huì )膨脹。反應時(shí)間不足，導致空洞和孔內銅層力學(xué)性能差。雖然可以通過(guò)電氣測試，但往往不能通過(guò)熱沖擊或用戶(hù)的組裝過(guò)程。鍍銅為了保持軟板的柔韌性，有時(shí)只選用鍍銅，稱(chēng)為扣板。做圖形轉移后的電鍍孔前選擇性電鍍，電鍍原理與硬板相同。圖案傳遞過(guò)程與剛性板相同。

否則會(huì )出現腐蝕等問(wèn)題。良好的粘合通常會(huì )被電鍍、粘合和焊接操作中的殘留物削弱，環(huán)氧樹(shù)脂對電鍍件的附著(zhù)力這些殘留物可以通過(guò)等離子方法選擇性地去除。同時(shí)，氧化層對鍵合質(zhì)量有不利影響，需要等離子清洗。二、等離子蝕刻在等離子體蝕刻工藝中，蝕刻氣體通過(guò)工藝氣體變成氣相（例如，當使用氟氣蝕刻硅時(shí)）。工藝氣體和基板用真空泵抽出，表面不斷覆蓋新的工藝氣體。不想腐蝕的部件應該用材料覆蓋（例如用于半導體行業(yè)的鉻）。

焊接接頭上的壓力可以很低（當存在污染物時(shí)。焊接接頭穿透污染物，環(huán)氧樹(shù)脂對電鍍件的附著(zhù)力需要更大的壓力），在某些情況下，連接溫度也可以降低，從而增加產(chǎn)量和降低成本。過(guò)膠：環(huán)氧樹(shù)脂在加工過(guò)程中，污染物會(huì )導致泡沫發(fā)泡率過(guò)高，造成產(chǎn)品質(zhì)量和使用使用壽命低，所以為了避免密封泡沫形成過(guò)程中出現的情況。清洗后，芯片和基底會(huì )與膠體結合得更緊密。形成的泡沫會(huì )大大減少，同時(shí)散熱和光發(fā)射率也會(huì )顯著(zhù)提高。。

環(huán)氧樹(shù)脂對電鍍件的附著(zhù)力

當使用等離子體時(shí)，會(huì )發(fā)出輝光，因此稱(chēng)為輝光放電。等離子清洗機技術(shù)的最大特點(diǎn)是既可以加工對象基材類(lèi)型，也可以加工金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚(乙)氯、環(huán)氧，甚至可以很好地與聚四氟乙烯等，并可實(shí)現整體和局部清洗和復雜結構。隨著(zhù)經(jīng)濟的發(fā)展和人民生活水平的不斷提高，對消費品的質(zhì)量要求也越來(lái)越高。等離子體技術(shù)已逐步進(jìn)入消費品生產(chǎn)行業(yè)。

例:H2+e→2H*+e-H*+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬+H2O從反應公式可以看出，氫等離子體可以通過(guò)化學(xué)反應去除金屬表面的氧化層，清潔金屬表面。物理清洗：以物理反應為主要表面反應的等離子體清洗，也叫濺射蝕刻(SPE)。例:Ar+e→Ar++2E-Ar++污染→揮發(fā)性污染Ar+在自偏壓或外加偏壓作用下加速產(chǎn)生動(dòng)能，然后轟擊被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、環(huán)氧樹(shù)脂溢出或微粒污染物，同時(shí)激活表面能。。

等離子體具有電子、離子和具有特定能量分布的中性粒子，當它們與材料表面發(fā)生碰撞時(shí)，這些能量會(huì )傳遞給材料表面的分子和原子，從而產(chǎn)生一系列物理結果。你可以的。和化學(xué)過(guò)程。一些粒子也可以注入到材料表面，引起碰撞、散射、激發(fā)、位錯、異構化、缺陷、結晶和非晶化，從而改變材料的表面特性。等離子體可以分解暴露于高能材料的材料表面的聚合物，產(chǎn)生自由基。

D.在線(xiàn)等離子清洗機清洗完畢后，等離子清洗機倉庫的天花板門(mén)打開(kāi)，裝載平臺從等離子中取出。車(chē)身清洗倉將從清洗區移至卸料區； F、將裝載平臺上的產(chǎn)品重新裝載到料箱中。從以上技術(shù)方案可以看出，在線(xiàn)等離子清洗機的清洗方式是將待清洗產(chǎn)品從料箱中取出，將待清洗產(chǎn)品放在臺上，再對待清洗產(chǎn)品進(jìn)行清洗。...不是將待清洗的產(chǎn)品排成一排，而是放在同一平面上，同時(shí)臺上沒(méi)有側板，所以待清洗的產(chǎn)品表面被徹底清洗干凈。

電鍍件的附著(zhù)力

如果使用等離子體處理技巧，環(huán)氧樹(shù)脂對電鍍件的附著(zhù)力不僅能有效避免使用化學(xué)物質(zhì)的弊端，還能在很大程度上節約資源、減少浪費?？梢哉f(shuō)，等離子體處理技能可以應用在很多領(lǐng)域。它不僅具有非常好的清潔能力，而且可以在外部蝕刻活化。這些優(yōu)勢使等離子體治療技能得到更廣泛的應用，在不久的將來(lái)其覆蓋面將更廣。

理想原子層蝕刻周期可分為以下四個(gè)階段:(1)在腔體中滲透反應氣體，環(huán)氧樹(shù)脂對電鍍件的附著(zhù)力對材料表面進(jìn)行修飾，形成單一的自限層;(3)向空腔內引入高能粒子，去除單一的自限層，實(shí)現自限蝕刻行為;(4)停止進(jìn)入高能粒子，并利用等離子體表面處理機的真空設備泵去除多余的顆粒和未參與蝕刻的蝕刻副產(chǎn)物。對于實(shí)際原子層蝕刻過(guò)程中每個(gè)循環(huán)的反應A和B，理想的單層自限蝕刻工藝難以實(shí)現。