如果溫度過(guò)高或壓力不足,粉末噴涂附著(zhù)力不好原因會(huì )導致產(chǎn)品報廢,設備部件損壞。因此,實(shí)時(shí)監控非常重要。冷卻水的壓力和流量一般由水流開(kāi)關(guān)來(lái)監測。水流開(kāi)關(guān)分為機械式和定量式,需要在進(jìn)水管上串聯(lián)使用。當壓力或流量過(guò)小時(shí),輸出信號可實(shí)現設備的報警功能。一般情況下,每個(gè)溫控單元的進(jìn)水口都配有獨立的水流開(kāi)關(guān),保證穩定可靠。

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4.適應性強,噴涂附著(zhù)力不好原因凈化功能持久,無(wú)需特別照顧??蛇m應高濃度、大氣體積、不同氣態(tài)物質(zhì)的凈化處理,可在高溫250℃和低溫-50℃的環(huán)境下在凈化區工作,特別是在潮濕、空氣5平、穩定運行、濕度飽和的環(huán)境下,可24小時(shí)連續工作,長(cháng)時(shí)間穩定牢固地工作。6.低耗、節能、運行成本低、省電是“低溫等離子體”證書(shū)的核心技能之一。處理0m3/h臭氣僅耗電0.25度。本設備無(wú)機械動(dòng)作,自動(dòng)化程度高,工藝簡(jiǎn)單,使用時(shí)操作簡(jiǎn)單方便。

等離子體清洗技術(shù)在微電子封裝、半導體制造、光電行業(yè)、醫學(xué)行業(yè)等多領(lǐng)域中具有廣泛的應用,主要用于去除表面污物和表面刻蝕等,工藝的選擇取決于后序工藝對材料表面的要求、材料表面的原有特征、化學(xué)組成以及表面污染物性質(zhì)。特別是將等離子體清洗引入微電子封裝中,能夠顯著(zhù)改善封裝質(zhì)量和可靠性。但是采用不同的工藝,對鍵合特性、引線(xiàn)框架的性能等的影響有很大差異。

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運行 PLASMA 等離子清洗機時(shí)的注意事項: 1.正確設置等離子設備的運行參數,并按照使用說(shuō)明書(shū)運行設備。 2.保護等離子體。點(diǎn)火系統確認等離子清洗機可以正常啟動(dòng); 3.關(guān)于等離子設備開(kāi)機前的準備工作,需要對相關(guān)人員進(jìn)行培訓,同時(shí)確保操作等離子清洗機的人員能夠準確地進(jìn)行各種操作; 4.如果一次風(fēng)道不通風(fēng),等離子發(fā)生器的運行時(shí)間不能超過(guò)設備說(shuō)明書(shū)要求的時(shí)間,以免燒壞燃燒器,造成不必要的損失。

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