其等離子清洗機的效果與特點(diǎn)主要體現在以下幾個(gè)方面：　　(1)清洗后的材料表面基本沒(méi)有殘留物，電泳漆附著(zhù)力不強并且可以通過(guò)選擇、搭配不同的等離子體清洗類(lèi)型，產(chǎn)生不同的清洗效果，滿(mǎn)足后續處理工藝對材料表面特性的多種需求;　　(2)由于等離子體的方向性不強，因此方便清洗帶有凹陷、空洞、褶皺等復雜結構的物件，適用性較強;　　(3)可處理多種基材，對待清洗物件的要求較低，因此特別適合清洗不耐熱和溶劑的基體材料;　　(4)清洗過(guò)后無(wú)需干燥或其他工序，無(wú)廢液產(chǎn)生，同時(shí)其工作氣體排放無(wú)毒害，安全環(huán)保;　　(5)操作簡(jiǎn)便、易控、快捷，對真空度要求不高或可直接采用大氣壓等離子體清洗工藝，同時(shí)此工藝避免了大量溶劑的使用，因此成本較低。

(3)無(wú)線(xiàn)電波范圍內的高頻等離子體與激光等直射光不同，電泳漆附著(zhù)力不強其方向性不強，因此能夠深入物體的細孔和凹陷內部完成清洗任務(wù)，因此不必過(guò)度考慮被清洗物體形狀的影響，這些難以清洗的部分的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似(4)整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘即可完成，因此具有效率高的特點(diǎn)。(5)等離子清洗所需真空度約為 Pa，在工廠(chǎng)實(shí)際生產(chǎn)中易于實(shí)現。設備成本較低，清洗過(guò)程無(wú)需使用昂貴的有機溶劑，運行費用較傳統清洗工藝低。

其清潔優(yōu)勢主要體現在以下幾個(gè)方面：1.清洗后材料表面無(wú)殘留物，電泳漆附著(zhù)力不強選擇搭配不同的等離子清洗類(lèi)型可產(chǎn)生不同的清洗效果，滿(mǎn)足后續需要處理工藝對材料表面特性的各種要求。2.由于等離子體的方向性不強，便于清洗凹陷、孔洞、褶皺等結構復雜的物體，適用性強。3.可處理多種基材，對被清洗對象要求低，因此特別適合不耐熱、不耐溶劑的基材材料清洗。4、清洗后無(wú)需烘干等工序，無(wú)廢液產(chǎn)生，工作氣體排放無(wú)毒，安全環(huán)保。

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電泳漆附著(zhù)力比噴漆如何

3 Plasma 必須滿(mǎn)足約束條件等離子體清潔器中等離子體的存在具有空間和時(shí)間限制。如果電離氣體的空間尺度不滿(mǎn)足等離子體存在的空間極限，或者如果電離氣體存在的時(shí)間短于等離子體時(shí)間尺度的下限，則這種電離氣體是等離子體。通俗地說(shuō)，等離子體是一種電離氣體，但電離氣體不一定是等離子體?？萍?，精準到每一個(gè)小顆粒！用于等離子清洗機的電離氣體包括等離子氣體和普通電離氣體。。

IC包裝的形式很多，在科技進(jìn)步的同時(shí)，也發(fā)生了快速的變化，但其生產(chǎn)過(guò)程包括芯片放置框架內的導線(xiàn)鍵、密封固化等，但只有包裝滿(mǎn)足實(shí)際應用的要求，才能成為終端產(chǎn)品。低溫等離子體表面清洗機主要用于先進(jìn)的晶圓包裝應用，可明顯減少化學(xué)和耗材的使用，保護環(huán)境，減少設備的使用成本。

等離子工作形態(tài)以炬式較為常見(jiàn)（產(chǎn)品如右圖），條狀放電模式使得表面處理后均勻性不高。設備工作過(guò)程中會(huì )產(chǎn)生超標的臭氧與氮氧化物等對人體有害的氣體，必須要配套廢氣排放系統一同工作。因為上述特性，Corona等離子主要適用于對處理效果要求不高，并且后續運行成本低的行業(yè)（可使用空氣），比如紡織業(yè)等。 1.2Glow等離子。主要分為兩種方式，即腔式與大氣壓式，此兩種等離子技術(shù)均為直接式等離子。

其中，物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走；化學(xué)反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)，從而達到清洗目的。我們的工作氣體，經(jīng)常用到氫氣（H2）、氮氣（N2）、氧氣（O2）、氬氣（Ar）、甲烷（CF4）等。

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