真空等離子清洗機、大氣等離子處理機、寬幅等離子清洗機有幾種稱(chēng)謂,附著(zhù)力好的底漆樹(shù)脂又稱(chēng)低溫等離子體處理機.等離子處理器,等離子處理儀;低溫等離子表面處理機,等離子處理設備,等離子體處理設備,電漿清洗機,電漿處理機,plasma處理機,plasma清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機,等離子去膠機,等離子體清洗機,等離子體清洗器,等離子體清洗設備。

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通常情況下,附著(zhù)力好的固化劑有那幾種物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在某些特殊情況下,還存在第四種狀態(tài),比如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。處于等離子體狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種:高速運動(dòng)的電子;處于激發(fā)(活性)狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(自由基);電離原子和分子;未反應的分子、原子等,但物質(zhì)作為一個(gè)整體保持電中性。等離子體清洗機的機理主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來(lái)去除物體表面的污漬。

處于等離子體狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種:高速運動(dòng)的電子;處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(自由基);電離原子和分子;未反應的分子、原子等,附著(zhù)力好的固化劑有那幾種但物質(zhì)作為一個(gè)整體保持電中性。

當雷達頻率低于等離子體頻率時(shí),附著(zhù)力好的底漆樹(shù)脂雷達波被全反射,等離子體可以以電磁波反射器的形式對雷達進(jìn)行電子干擾,即雷達波的來(lái)回傳播路徑被彎曲,雷達顯示屏上出現的是虛像而不是真實(shí)位置。當雷達頻率高于等離子體頻率時(shí),雷達波可以進(jìn)入等離子體并被吸收,從而大大削弱雷達接收到的攻擊武器的信號。這些功能使等離子體成為一種新型的電子干擾和隱身材料,其中隱身技術(shù)是一種很有前途的技術(shù)。

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顧名思義,由于其應用于生物醫學(xué)工程領(lǐng)域,不僅要求材料力學(xué)等基本性能,還要求材料在特殊應用環(huán)境下的生物相容性、穩定性等多方面的預期性能。等離子體設備中的等離子體浸漬離子注入沉積作為微電子工業(yè)中形成的技術(shù),因其在材料加工制造方面的優(yōu)異性能,被引入生物醫學(xué)工程材料制造領(lǐng)域。

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為了保證放電的穩定性,兩個(gè)電極之間的距離被限制在幾毫米之內,并且需要一個(gè)正弦或脈沖的高壓電源來(lái)實(shí)現大氣放電。取決于放電氣氛、激發(fā)電壓和頻率,在兩個(gè)電極之間會(huì )產(chǎn)生絲狀或發(fā)光的等離子體。單絲放電由電介質(zhì)表面的微放電或放電條組成。輝光等離子體的產(chǎn)生需要氮氣和氦氣等惰性氣體的參與,因為它們可以產(chǎn)生具有高活性和彭寧效應的亞穩態(tài)粒子。

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