腐蝕性氣體等離子體具有良好的各向異性，陽(yáng)極電泳漆附著(zhù)力的原因能夠滿(mǎn)足腐蝕的需要。當使用等離子體時(shí)，會(huì )發(fā)出輝光，因此稱(chēng)為輝光放電。輝光放電過(guò)程中，電子和正離子在放電管兩極電場(chǎng)的作用下分別向陽(yáng)極和陰極移動(dòng)，并在兩極附近聚集形成空間電荷區。因為正離子的漂移速度遠低于電子,正離子空間電荷區域的電荷密度遠遠高于電子空間電荷區域,這樣整個(gè)極間電壓幾乎集中在陰極附近的狹窄區域。

當電子、離子和中性粒子（中性氣體）的溫度分別為T(mén)e、Ti、Tn時(shí)，電泳漆附著(zhù)力測定這三種粒子的溫度幾乎相等（Te≈Ti≈Tn），稱(chēng)為熱平衡等離子體。在稱(chēng)為熱等離子體（熱等離子體）的實(shí)際熱等離子體發(fā)生器中，流入的工作氣體通過(guò)陰極和陽(yáng)極之間的電弧放電電離，輸出等離子體以射流的形式，可以使用增加。如等離子射流（常壓射流等離子體等離子射流）、等離子炬（等離子炬）等。

輝光放電在兩極電場(chǎng)的作用下，電泳漆附著(zhù)力測定電子和正離子分別向陽(yáng)極、陰極運動(dòng)，并在此過(guò)程中堆積在兩極附近形成空間電荷區 。又因為正離子的漂移速度遠小于電子，所以正離子空間電荷區的電荷密度比電子空間電荷區要大得多，讓整個(gè)極間電壓幾乎全部集中在陰極附近的狹窄區域內。這也是輝光放電的顯著(zhù)特征，而且在輝光正常放電時(shí)，兩極間電壓不會(huì )隨著(zhù)電流的改變而發(fā)生變化。

首先，陽(yáng)極電泳漆附著(zhù)力的原因操作人員必須經(jīng)過(guò)技術(shù)方面的培訓，使他們能夠掌握操作程序，并嚴格按照操作要求使用。 2.在正式使用等離子清洗機之前，必須正確設置操作參數，并按照設備使用說(shuō)明書(shū)仔細操作，不能隨意使用。 3.等離子點(diǎn)火器必須受到保護，以確保等離子清洗機正常打開(kāi)。但是，可能難以打開(kāi)或打開(kāi)異常。四。如果一次風(fēng)道不通風(fēng)，確保等離子發(fā)生器的運行時(shí)間在規定時(shí)間內，且不超過(guò)設備說(shuō)明書(shū)要求的時(shí)間。

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簡(jiǎn)單而言，自動(dòng)清洗臺是多片同時(shí)清洗，的優(yōu)勢在于設備成熟、產(chǎn)能較高，而單晶圓清洗設備是逐片清洗，優(yōu)勢在于清洗精度高，背面、斜面及邊緣都能得到有效的清洗，同時(shí)避免了晶圓片之間的交叉污染。45nm之前，自動(dòng)清洗臺即可以滿(mǎn)足清洗要求，在目前仍然有所應用；而在45以下的工藝節點(diǎn)，則依賴(lài)于單晶圓清洗設備達到清洗精度要求。在未來(lái)工藝節點(diǎn)不斷減小的情況下，單晶圓清洗設備是目前可預測技術(shù)下清洗設備的主流。

在線(xiàn)真空等離子體清洗機專(zhuān)注于等離子體表面改性或等離子體表面處理應用。它利用等離子體的高能量和不穩定性對被處理材料的表面進(jìn)行清潔、活化和活化，從而改變表面的微觀(guān)結構、化學(xué)性質(zhì)和能量。等離子體與物體表面的相互作用可分為物理作用(離子轟擊)和化學(xué)作用。其物理化學(xué)反應機理是活性粒子轟擊被清理表面，使污染物從表面被清除，被真空泵吸出。其化學(xué)反應機理是各種活性顆粒與污染物發(fā)生反應，產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)，然后被真空泵吸出。

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2.2 蝕刻機制蝕刻機理的描述適用于所有類(lèi)型的等離子體技術(shù)，而不僅僅是 RIE。一般來(lái)說(shuō)，等離子蝕刻是化學(xué)蝕刻，而不是物理蝕刻。即，固體原子與氣體原子反應形成化學(xué)分子，這些化學(xué)分子從襯底表面去除以形成蝕刻。由于VDC的存在，一般會(huì )有一定量的基板濺射，在很多刻蝕中物理刻蝕效果微弱，可以忽略不計。

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