圖一 水平式等離子清洗機原理示意圖CCP典型放電條件：①壓強10Pa-100Pa；②電極間距1cm-5cm；③高頻功率20W-200W，迪高附著(zhù)力促進(jìn)樹(shù)脂生成等離子體密度約為1016m-3量級CCP放電優(yōu)勢：能夠較容易生成大口徑等離子體，放電現象較為穩定。

4、處理效果穩定等離子清洗的處理效果非常均勻穩定，迪高附著(zhù)力促進(jìn)樹(shù)脂常規樣品處理后較長(cháng)時(shí)間內保持效果良好。5、處理過(guò)程無(wú)需額外輔助的物品和條件大氣等離子清洗機只需要220V交流電和壓縮空氣氣源即可！無(wú)需其它額外物品和條件。 6、運行成本低全自動(dòng)運行，可24小時(shí)連續工作，無(wú)需人工看管，運行功率可低至500W。

等離子體常用的激勵頻率有三種:激勵頻率為40kHz的超聲波等離子體、激勵頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵頻率為2.45GHz的微波等離子體。不同等離子體產(chǎn)生的自偏置是不同的。超聲等離子體的自偏置在1000V左右，迪高附著(zhù)力促進(jìn)樹(shù)脂射頻等離子體的自偏置在250V左右，微波等離子體的自偏置很低，只有幾十伏特，三種等離子體的機理不同。

一般來(lái)說(shuō)，迪高附著(zhù)力促進(jìn)劑1600高溫等離子體是由大氣壓下氣體的電暈放電和低溫等離子體產(chǎn)生的。由低壓氣體輝光放電形成。熱等離子體裝置[4]利用帶電物體的尖端（如刀形或針形尖端或狹縫電極）產(chǎn)生非均勻電場(chǎng)。電暈放電。施加的電壓和頻率、電極間距、處理溫度和時(shí)間都會(huì )影響電暈處理的效果。電壓上升 電源頻率越高，電源頻率越高，加工強度越高，加工量越大。

迪高附著(zhù)力促進(jìn)樹(shù)脂

。等離子清洗機清洗工藝已被廣泛應用于晶圓加工、芯片封裝、傳感器、精密電子和醫療器械等領(lǐng)域，其優(yōu)點(diǎn)多多，例如不會(huì )改變材料表面特性和外觀(guān)，能夠對材料做到徹底清洗。

等離子體的“活性”成分包括離子、電子、原子、反應基團、激發(fā)態(tài)核素、光子等。等離子清潔劑利用這些活性成分的特性來(lái)處理樣品表面并實(shí)現其清潔目標。產(chǎn)生等離子體的條件：足夠的反應氣體和壓力。反應產(chǎn)物必須能夠與被清洗物體的表面高速碰撞并提供足夠的能量。反應后產(chǎn)生的物質(zhì)必須是揮發(fā)性微量混合物，這樣才能用真空泵抽出。泵的容量和速度必須足夠大，以快速排出反應副產(chǎn)物并補充反應所需的氣體。。等離子清洗機是一種干試生產(chǎn)工藝。

在IC芯片制造領(lǐng)域，等離子清洗機加工技術(shù)是一個(gè)不可替代的成熟工藝，無(wú)論是芯片源離子注入、晶圓鍍膜，還是我們的低溫等離子表面處理設備。成果：等離子清洗機去除晶圓表面的氧化物、有機物、掩膜去除等超細化處理和表面活化，提高晶圓表面的潤濕性。

除了氣體分子、離子和電子之外，等離子體還包含電中性原子或原子團（也稱(chēng)為自由基）。這些是由勢能激發(fā)的處于激發(fā)態(tài)的一組電中性原子。由于其短波長(cháng)和潛力，紫外光在等離子體與材料外表面之間的相互作用中起著(zhù)重要作用。在接下來(lái)的小編中，我們將分別介紹等離子在每種情況下的作用。自由基如原子團在材料外表面上的反應。自由基在等離子體中起著(zhù)重要的作用，因為這些自由基是電中性的，在等離子體中存在很長(cháng)時(shí)間，而且數量多于離子的數量。

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