頻率選擇：在低頻的情況下，附著(zhù)力大于2級液體受壓與受拉的時(shí)間變長(cháng)；因此空化生成的時(shí)間也長(cháng)，體積也長(cháng)，而空化閉合時(shí)所產(chǎn)生的沖擊力又與空化泡的大小成正比。所以頻率越低，空化越強烈。而我們用于工業(yè)清洗中的頻率一般小于60KHz，用的很多的是在20～40KHz之間。使用20KHz左右的頻率，可以得到相對小數量的空化泡，但有大的空化強度，并且伴有噪音，可用于清洗大部件表面與物件表面結合強度高的工件。

另一種方法即在光纜表面直接噴碼，附著(zhù)力大路面其成本低、效率高、印字內容及字體大小可隨時(shí)調整； 印字清晰美觀(guān)，即使出現噴碼錯誤時(shí)也易于重新噴印、而且印字不會(huì )對光纜線(xiàn)本身性能造成影響；唯(一)的缺點(diǎn)就是粘結性能差，表面噴碼內容容易被磨損掉。

上光工藝中UV上光相對較復雜一些，附著(zhù)力大于2級出現的問(wèn)題可能更多一點(diǎn)，目前來(lái)說(shuō),因UV油與紙張的親和力較差，而造成在糊盒或糊箱時(shí)經(jīng)常會(huì )出現開(kāi)膠的現象，而復膜后,因膜的表面張力及表面能會(huì )在不同的條件下有不同的值，大小忽異，再加上不同品牌的膠水所表現出的粘接性能不同，也經(jīng)常會(huì )出現開(kāi)膠現象，而一旦產(chǎn)品交到客戶(hù)手上再開(kāi)膠，就會(huì )有被罰款的可能，這些都令各廠(chǎng)家較煩惱，有的客戶(hù)為了盡量減少出現以上情況，不惜加大成本盡量采購進(jìn)口或國產(chǎn)上等糊盒膠水，但如果對化學(xué)品的保管不當，或其他原因，有時(shí)還是會(huì )出現開(kāi)膠現象。

相信您對對等離子清洗機的作用、性能、性能等有或多或少的了解，附著(zhù)力大路面在此先反問(wèn)一下，您對需要處理的產(chǎn)品形態(tài)特征、耐候溫度、產(chǎn)量要求、均勻度要求、加工目的、生產(chǎn)環(huán)境等方面是否有一個(gè)大概的了解，這有助于您選擇等離子清洗機品牌。

附著(zhù)力大于2級

等離子清洗/生產(chǎn)等離子蝕刻機設備，在密封容器中設置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，在真空室中抽真空一定程度，隨著(zhù)氣體越來(lái)越薄，分子之間的距離越來(lái)越遠，分子或離子，自由的運動(dòng)距離也越來(lái)越大，是一個(gè)電場(chǎng)，它們之間的碰撞形成等離子體，等離子體的活性越來(lái)越高，它的能量可以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起反應，不同的氣體等離子體有不同的性質(zhì)，如氧等離子體具有較高的氧化性，可以氧化光刻膠反應產(chǎn)生的氣體，從而達到清洗的效果;刻蝕氣體等離子體具有良好的各向異性，因此可以滿(mǎn)足刻蝕的需要。

等離子處理系統：等離子表面處理機系統，幾乎適用于各種工藝的高效、簡(jiǎn)便的“在線(xiàn)”處理工藝對于那些制品的表面特性zhen對后續工藝是決定性因素的加工過(guò)程而言，等離子處理技術(shù)是一種普適而又有效的改善表面的手段?！　∵@種常壓等離子處理機技術(shù)可以有選擇性地清洗、活化、或者涂裝包括塑料、金屬、玻璃、薄膜或者織物等材料在內的各種素材。

相比之下，等離子設備中干法刻蝕氮化硅對金屬硅化物的選擇性比小于濕法刻蝕。通過(guò)控制工藝時(shí)間和控制刻蝕量，可以達到控制硅化物損傷的目的。等離子體器件的應力越接近蝕刻，金屬硅化物損傷越嚴重，金屬硅化物的電阻越高。另一方面，由于側墻被完全或部分去除，降低了后續填充的縱橫比，提高了后續接觸通過(guò)停止層和層間介質(zhì)層的填充性能。。

等離子刻蝕清洗機ICP刻蝕技術(shù)廣泛應用于SiC的刻蝕應用：反應燒結碳化硅(RB-SiC)作為一種新型的陶瓷材料具有高的強度、比剛度、大熱導率和小膨脹系數等特點(diǎn).隨著(zhù)光學(xué)技術(shù)的快速發(fā)展光學(xué)系統朝著(zhù)大口徑、低損耗和輕量化的方向發(fā)展要求光學(xué)元件具有高分辨率、廣視場(chǎng)以及高質(zhì)量的表面形貌。。

附著(zhù)力大于2級