等離子體又稱(chēng)為電漿，是由以下物質(zhì)狀態(tài)組成：處于高速運動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(又稱(chēng)自由基)；離子化的原子、分子：分子解離反應過(guò)程中生成的紫外線(xiàn)；未反應的分子、原子等；該物質(zhì)集合體在總體上保持電中性狀態(tài)，是除固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之外物質(zhì)存在的第四態(tài)——等離子態(tài)。
真空等離子清洗機清洗原理
等離子的產(chǎn)生是高壓高頻能量在真空腔體內被激活和被控制的輝光放電中產(chǎn)生了低溫等離子體，當等離子體與被處理物體表面相遇時(shí)，產(chǎn)生了化學(xué)作用和物理變化，表面得到了清潔，去除碳化氫類(lèi)污物，如油脂、輔助添加劑等，根據材料成分，其表面分子鏈結構得到了改變。
真空等離子清洗機的清洗原理，主要依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物理被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。
等離子體與材料表面產(chǎn)生的反應主要有兩種：一種是靠等離子做物理反應(physicalreaction)，另一種是靠自由基來(lái)做化學(xué)反應(chemicalreaction)。
真空等離子清洗機與材料表面物理清洗原理
等離子體與材料表面產(chǎn)生的物理反應主要是利用離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著(zhù)材料表面的離子打掉，由于離子在壓力較低時(shí)的平均自由基較輕長(cháng)，有能量的積累，因而在物理撞擊時(shí)，離子的能量越高，越容易產(chǎn)生撞擊，所以若要以物理反應為主時(shí)，就必須控制較低的壓力下來(lái)進(jìn)行反應，這樣清洗效果較好。
真空等離子清洗機與材料表面化學(xué)清洗原理
等離子體與材料表面產(chǎn)生的化學(xué)反應主要是利用等離子體里的自由基來(lái)與材料表面做化學(xué)反應，在化學(xué)反應里常用的氣體有氧氣、氫氣、甲烷等，這些氣體在電漿內反應成高活性的自由基，自由基的作用表現在化學(xué)反應過(guò)程中能量傳遞的“活化”作用，處于激發(fā)狀態(tài)的自由基具有較高的能量，易于與物體表面分子結合時(shí)會(huì )形成新的自由基，新形成的自由基同樣處于不穩定的高能量狀態(tài)，很可能發(fā)生分解反應，在變成較小分子同時(shí)生成新的自由基，這種反應過(guò)程還可能繼續進(jìn)行下去，最后分解成水、二氧化碳之類(lèi)的簡(jiǎn)單分子。在這些情況下，會(huì )釋放出大量的結合能，這種能量成為引發(fā)新的表面反應推動(dòng)力，從而引發(fā)物體表面上的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應而被去除。大氣等離子清洗機清洗原理,FPC等離子清洗機清洗原理,等離子清洗機清洗缺點(diǎn),等離子清洗機清洗作用,等離子清洗機的清洗過(guò)程,等離子清洗機立體清洗,等離子清洗機的清洗過(guò)程的第五步是,plasma等離子清洗機的原理