在工業(yè)制造操作過(guò)程中對電子元器件、電子光學(xué)構件、機械零部件、復合材料等表層的超純凈度清洗，以清除微乎其微污漬顆粒物，傳統型的清洗方式通常為濕式清洗，伴著(zhù)著(zhù)如今智能產(chǎn)品的保持發(fā)展趨勢這類(lèi)清洗方式已顯現出其嚴重的缺點(diǎn)，即清洗干躁之后的清洗液殘留和細小顆粒物會(huì )黏附在表層，現已無(wú)法達到如今智能產(chǎn)品加工工藝的標準。
低溫等離子設備實(shí)際上是把污染物質(zhì)從被加工處理產(chǎn)品工件上移開(kāi)，并在低溫等離子體反應的撞擊下被帶走，加工處理循環(huán)系統通常只需用幾分鐘就能有效去除表層的污跡，等離子清洗機真真正正做到?jīng)]有殘留，零環(huán)境污染。24342