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由于低溫等離子體對物體表面處理的強度小于高溫等離子體，能夠實(shí)現對處理物體表面的保護作用，因而應用中我們使用的多為低溫等離子體。低溫等離子體中粒子的能量一般約為幾個(gè)至十幾電子伏特，大于聚合物材料的結合鍵能(幾個(gè)至十幾電子伏特)，完全可以破裂有機大分子的化學(xué)鍵而形成新鍵；但遠低于高能放射性射線(xiàn)，只涉及材料表面，不影響基體的性能。
低溫等離子表面處理在精密光電領(lǐng)域應用1.清除手機攝像模組支架；2.清除濾光片的微粒和有機物；3.印刷電路板PCB的焊盤(pán)清洗和軟硬接合板和FPC微孔除膠；4.行業(yè)內常見(jiàn)的處理材料還有特氟龍電路板、芯片電阻、電阻式保險絲、手機天線(xiàn)、聲學(xué)器件、通訊線(xiàn)纜、電子塑膠件。
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在使電子加速的機制當中，廣東等離子清洗機廠(chǎng)家直銷(xiāo)理想所滿(mǎn)足的條件是電子在和氬原子產(chǎn)生彈性碰撞并改變運動(dòng)方向的瞬間電場(chǎng)轉向，電子速度和能量均會(huì )得到增長(cháng)，如果能夠滿(mǎn)足上述條件，哪怕電場(chǎng)強度很弱，電子也能獲得電離能的能量，在此機制中，電場(chǎng)頻率的理想范圍通常在約幾千MHz。 也有學(xué)者對上述機制有所延伸，認為從器壁和陰極發(fā)射的二次電子被離子鞘加速后進(jìn)入輝光放電區成為電子的附加來(lái)源，屬于二次電子倍增現象。
在正常催化條件下 CH4 到 C2 烴的 CO2 氧化反應中，廣東等離子清洗機廠(chǎng)家直銷(xiāo)當反應溫度為 820 ℃時(shí)，甲烷轉化率較低，但負載型 Na2WO4 催化劑的 C2 烴選擇性高達 94.5%。（4.73 %）。結論如下。 Na2WO4/Y-Al2O3在等離子等離子體條件下仍具有較高的C2烴選擇性，在30W等離子注入功率下C2烴選擇性為72%。
