在等離子體和容器壁之間的非電中性區域通常稱(chēng)作等離子體鞘層,它是等離子體中一個(gè)很重要而特殊的區域等離子體是由數量相等的正離子和電子組成,由于電子比離子速度快而先到達容器壁,因而等離子體相對器壁呈i正電性.鞘層電場(chǎng)可以對等離子體內的離子加速,使離子具有很高的能量,利用這個(gè)高能離子流可以實(shí)現鍍膜、刻蝕以及濺射等自從1929年LangmuirL3提出了等離子體鞘層的概念以來(lái),等離子體鞘層的物理特性就一-直是個(gè)熱點(diǎn)研究問(wèn)題.鞘層的特性不僅取決于等離子體參量,也與容器壁性質(zhì)有關(guān).金屬表面的鞘層比電介質(zhì)表面的鞘層具有更寬的范圍,特別是不同介電常數、不規則形狀物體表面的。
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等離子清洗劑處理可以選擇性地改變表面的化學(xué)和物理特性，貴州等離子體除膠機價(jià)格而不影響器件的整體特性。例如，微生物聚合物的等離子體表面處理可以在不改變聚合物表面粗糙度的情況下引入官能團，引起接枝聚合，提高涂層附著(zhù)力并形成分子交聯(lián)。鈦裝置的等離子處理提供了表面清潔和消毒，并為隨后的等離子聚合提供了良好的起點(diǎn)。用等離子清潔劑處理的鈦表面可以顯著(zhù)提高細胞粘附性并提高可植入生物材料的生物相容性。
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常用的清洗氣體是PFCs和SF6等含F氣體，可作為等離子體發(fā)生氣體用來(lái)清洗CVD腔室壁上的Sio2或Si3N4。再循環(huán)過(guò)程中，FFC在等離子體作用下分解出的F原子能刻蝕掉電極、腔室壁上的殘留物，以及腔內五金器件上的殘留物。在等離子清洗機清洗的過(guò)程中，有相當一部分腔室內的FFC并沒(méi)有離解為活性F原子。除非采用減少排放技術(shù)，不然這部分未反應的含F氣體將流入大氣層。
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