3.新官能團的形成-化學(xué)效應：如果在放電氣體中引入反應性氣體，怎么樣增加電暈處理效果活化數據表面會(huì )發(fā)生混沌化學(xué)反應，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，這些都是活性基團，可以明顯提高數據的表面活性。真空等離子清洗機是利用等離子對各種高能物質(zhì)的活化作用，將附著(zhù)在物體表面的污垢徹底剝離去除。下面是用氧等離子體去除物體表面油脂和污垢的例子來(lái)說(shuō)明這些效果。

做好材料表面處理前的預處理是保證后續涂層質(zhì)量的前提。環(huán)保水性涂料技術(shù)是許多企業(yè)涂裝過(guò)程中的核心環(huán)節。常壓等離子體表面清洗設備的應用為水性涂層提供了可能。常壓等離子體表面清洗設備的預處理還可以去除表面的油污和灰塵，電暈處理及工作視頻增強材料的表面勢能。大氣等離子體表面清洗設備前清洗過(guò)程的清洗效果還可以去除表面油污，等離子體防靜電效果可以去除附著(zhù)在表面的灰塵顆粒，同時(shí)化學(xué)反應效果增強了表面勢能。

玻璃等離子體清洗機產(chǎn)生的等離子體含有高活性的電子、離子和自由基。這些顆粒非常簡(jiǎn)單，怎么樣增加電暈處理效果產(chǎn)品表面的污染物也會(huì )反應形成CO2和水蒸氣，從而達到增加表面粗糙度和表面清潔的效果。等離子體可以通過(guò)反應形成自由基，從而去除產(chǎn)物表面的有機污染物，活化產(chǎn)物表面。其目的是提高表面粘接的可靠性和耐久性。還能清潔產(chǎn)品表面，提高表面親和力（減小水滴角度），增加涂層體內的附著(zhù)力。

在離子增強蝕刻中，電暈處理及工作視頻當高能粒子撞擊表面時(shí)，表面會(huì )形成缺陷、位錯或懸浮物。這些缺陷增加了表面的化學(xué)蝕刻速率，使蝕刻過(guò)程同時(shí)具有選擇性和方向性。在所有這些清洗過(guò)程中，碳氫化合物與基底之間的鍵合被削弱，獲得的能量導致這些有機絡(luò )合物從基底上分離。一旦從化合物的分子基團中分離出來(lái)，就會(huì )被惰性氣體帶走。等離子體產(chǎn)生的光輻照與中性粒子流和帶電粒子轟擊相結合鍵的斷裂提供能量。

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等離子體是電中性的，由電子、離子、光子和中性粒子組成，其中電子和正離子的數量基本相等，但等離子體并不處于穩定的物質(zhì)狀態(tài)。當電離能消失時(shí)，各種粒子會(huì )重新組合，形成原來(lái)的氣態(tài)分子。低溫等離子體中的活性粒子種類(lèi)繁多，比一般化學(xué)反應產(chǎn)生的活性粒子活性更強，種類(lèi)更多。這些活性粒子很容易與材料表面發(fā)生反應，因此常被用來(lái)清洗或修飾材料表面。

等離子體與材料表層的物理反應，主要是純物理作用，利用離子敲除材料表面的原子或附著(zhù)在材料表面的離子，因為離子的平均自由基較輕，能量在低壓下積累，所以發(fā)生物理碰撞時(shí)，離子的能量越高，越容易碰撞。因此，以物理反應為主，必須控制低壓下的化學(xué)反應，清洗效果較好。

等離子清洗機在pcb電路板生產(chǎn)應用領(lǐng)域的蝕刻；等離子體清潔器采用純四氟化碳混合氣體或四氟化碳與O2結合實(shí)現晶圓制作中氮化硅的&mu；M級蝕刻時(shí)，采用四氟化碳與O2或氫氣搭配的方式來(lái)&MU；用于去除的M級光刻膠。

醫院、制藥業(yè)、養殖業(yè)排放的廢水中往往含有大量抗生素殘留。這些廢水如果不經(jīng)處理直接排放，將嚴重影響生態(tài)平衡，威脅人類(lèi)健康。等離子體處理被認為是固體、液體和氣體以外的物質(zhì)存在的“第四狀態(tài)”。近年來(lái)，等離子體治療在工業(yè)、農業(yè)、生物醫藥等諸多領(lǐng)域顯示出廣闊的應用前景。黃慶研究員與企業(yè)合作，提出了利用“等離子體生物技能”處理廢水、降解抗生素的方案。

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