通常認為甲烷在等離子體發(fā)生器條件下以?xún)煞N方式產(chǎn)生乙炔: 1. CH自由基偶聯(lián)反應; 2. C2H6和C2H4的脫氫反應。如果體系中CO2濃度繼續升高,特氟龍plasma活化機會(huì )消耗大量高能電子,C2H6、C2H4與高能電子碰撞的概率會(huì )不斷降低,進(jìn)而發(fā)生脫氫反應。受阻,C2H4 的產(chǎn)生量進(jìn)一步減少。因此,隨著(zhù)體系中CO2濃度的增加,C2H6和C2H4的摩爾分數趨于增加,C2H2的摩爾分數減小。

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達因值越低,特氟龍plasma表面清洗機器物體的表面能越低,等離子處理后的達因值越高,物體的表面能越高,表面能越高,吸附效果越好,鍵合效果越好。更好的涂層。效果;2。水滴角測試(測量水滴角(接觸角))可以反映等離子體是否影響產(chǎn)品加工。目前,業(yè)界對等離子清洗效果的評價(jià)。測試數據準確、操作簡(jiǎn)便、重現性高、穩定性好。等離子清洗前: 等離子清洗后:通過(guò)等離子處理去除油污和表面粗糙度。

..由于空氣污染和酸化,特氟龍plasma活化機生態(tài)環(huán)境遭到破壞,大規模災害頻發(fā),人類(lèi)損失慘重。因此,選擇經(jīng)濟可行的解決方案勢在必行。傳統的吸附、吸附、冷凝、燃燒等分解揮發(fā)性有機污染物(VOCs)的處理方法等低溫等離子技術(shù)在氣態(tài)污染物治理方面具有顯著(zhù)優(yōu)勢。其基本原理是在電場(chǎng)的加速作用下產(chǎn)生高能電子。當電子的平均能量超過(guò)目標物質(zhì)分子的化學(xué)鍵能時(shí),分子鍵斷裂,達到去除的目的。氣態(tài)污染物。傳統意義上的等離子體是具有大量電離的中性氣體。

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此外,這些難清洗部位的清洗效果等同于或優(yōu)于氟利昂清洗。五。等離子清洗可用于顯著(zhù)提高清洗效率。整個(gè)清洗過(guò)程可在幾分鐘內完成,其特點(diǎn)是良率高。 6、等離子清洗需要控制的真空度在100PA左右,這個(gè)清洗條件很容易達到。因此,該設備的設備成本不高,整體成本低于傳統的濕法清洗工藝,因為該清洗工藝不需要使用昂貴的有機溶劑。 7.等離子清洗通過(guò)清洗液的輸送、儲存、排水等處理方式,可以輕松保持生產(chǎn)現場(chǎng)的清潔衛生。

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