3、PLASMA處理的表面粗化與蝕刻作用：對應不同的材料采用相應的氣體組合形成具有強烈蝕刻性的氣相等離子體與材料表面的本體發(fā)生化學(xué)反應及物理沖擊，煙霧為什么附著(zhù)力弱的原因使材料本體表面的固態(tài)物質(zhì)被氣化，生成如CO、CO2、H2O等氣體，從而達到微蝕刻的目的。 主要特點(diǎn)：刻蝕均勻，不改變材料基體特性；能有效粗化材料表面，并能精準控制微蝕量。

由于高溫等離子體對物體表面的強烈作用，煙霧為什么附著(zhù)力強烈在實(shí)際應用中很少使用，目前只在低溫下使用Ionosomes,因為冷等離子體被稱(chēng)為等離子體短,我希望讀者不會(huì )誤解。

圖 1.2 等離子體產(chǎn)生原理（以水為例）等離子體由大量離子和自由電子組成，煙霧為什么附著(zhù)力強烈整體上表現為近似電中性，與物質(zhì)的三態(tài)一樣，是物質(zhì)存在的一種聚集態(tài)。從宏觀(guān)上看，等離子體是一種導電的流體，由等離子體的生成過(guò)程可知，當給氣體施加顯著(zhù)的高溫或高能量時(shí)，中性的物質(zhì)就會(huì )被離解成離子、電子和自由基。另外，等離子體本身具有變成為電中性的強烈傾向，等離子體中的電荷分離需要由等離子體本身的內能（熱能）或外加電場(chǎng)來(lái)維持。

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煙霧為什么附著(zhù)力弱的原因

化學(xué)反應室中的氣體電離是指離子、電子、自由基等活性物質(zhì)的等離子體，通過(guò)擴散吸收于表象介質(zhì)中，并與表象介質(zhì)中的原子反應，形成揮發(fā)性物質(zhì)。而且，高能離子在一定壓力下物理轟擊和蝕刻介質(zhì)的外觀(guān)，去除再沉積的化學(xué)反應產(chǎn)物和聚合物。介質(zhì)層的刻蝕是通過(guò)化學(xué)和物理相互作用完成的?？涛g是晶圓制造的重要環(huán)節，也是微電子IC制造工藝和微納制造工藝中的重要環(huán)節。

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等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域，該領(lǐng)域結合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多種領(lǐng)域，包括化工、材料和電機，因此將極具挑戰性，也充滿(mǎn)機會(huì )，由于半導體和光電材料在未來(lái)得快速成長(cháng)，此方面應用需求將越來(lái)越大。。

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