較高的離子沖擊能量進(jìn)一步提高了光刻膠的蝕刻速率，線(xiàn)纜plasma刻蝕但在非常低的溫度（<- °C）下，光刻膠的蝕刻速率降低到可以忽略不計的程度，導致能量的沖擊效應增加。抵消。對于低溫刻蝕，一個(gè)很重要的優(yōu)點(diǎn)是等離子表面處理機刻蝕后結構的側壁粗糙度非常小。除了改善蝕刻各向異性以控制邊際尺寸外，這項研究還表明，等離子表面處理器的超低溫蝕刻工藝可以有效提高微觀(guān)均勻性并降低負載效應。

等離子表面處理機超低溫等離子刻蝕技術(shù)應用等離子表面處理機超低溫等離子刻蝕技術(shù)應用：巴克拉諾夫研究組等離子表面處理機在高溫下蝕刻多孔有機硅酸鹽（OSG多孔有機硅酸鹽），線(xiàn)纜plasma刻蝕這是一種低介電常數材料。這種材料通常用作半導體后端大馬士革工藝中的絕緣和填充材料。在本研究中，當等離子表面處理機的等離子刻蝕溫度低于- ℃時(shí)，這種材料在刻蝕過(guò)程中產(chǎn)生的low-k損傷急劇降低，介電常數沒(méi)有明顯增加，這一點(diǎn)被理解。

材料屬性沒(méi)有區別。發(fā)生了重大變化。同時(shí)，線(xiàn)纜plasma刻蝕機器該研究比較了不同偏置電壓下蝕刻過(guò)程中對介電材料的損傷。等離子表面處理機的低偏壓或零偏壓超低溫刻蝕顯著(zhù)降低了低介電常數材料的PID，而材料的介電性能與刻蝕前相比沒(méi)有明顯變化。 2015年，佐治亞理工學(xué)院的赫斯研究組報道了在等離子表面處理設備中使用低溫氣體等離子蝕刻與方安一起蝕刻金屬銅、金和銀材料。

等離子設備噴涂與火焰和氣相表面噴涂技術(shù)的區別本文詳細介紹了等離子設備噴涂技術(shù)與火焰和氣相表面噴涂技術(shù)之間的區別。一、噴涂等離子裝置與氣相表面噴涂的區別 火焰噴涂 等離子裝置的噴涂技術(shù)是繼火焰噴涂之后大力發(fā)展起來(lái)的種類(lèi)繁多的精密?chē)娡糠椒ā?(1)具有超高溫特性，線(xiàn)纜plasma刻蝕可輕松實(shí)現高熔點(diǎn)材料的噴涂。 (2)顆粒噴射率高，涂層密度高，結合應力高。 (3)由于采用稀有氣體作為入口氣體，噴涂材料不易氧化。

線(xiàn)纜plasma刻蝕

3、在金屬行業(yè)的許多金屬制品和各種鋼材中，等離子表面噴涂預處理時(shí)，表面進(jìn)行等離子處理，以提高表面的附著(zhù)力。噴涂金屬不僅延長(cháng)了使用壽命，還增強了耐磨性，比非等離子處理耐磨20倍以上。 4、大家都知道，在汽車(chē)制造行業(yè)，汽車(chē)的密封性能需要非常好。等離子等離子處理設備用于不同類(lèi)型的車(chē)門(mén)。在窗戶(hù)、內飾、燈和空調出口處部分噴涂橡膠密封件。這樣可以提高汽車(chē)的氣密性。

化學(xué)式表明典型的PE工藝是氧或氫等離子工藝。在與氧等離子體發(fā)生化學(xué)反應后，非揮發(fā)性有機化合物轉化為揮發(fā)性 CO2 和水蒸氣。去除污垢并清潔表面。離子氫用于通過(guò)化學(xué)反應去除金屬表面的氧化層，清潔金屬表面。反應氣體在一定條件下電離形成的高活性反應顆粒與待清潔表面發(fā)生化學(xué)反應，產(chǎn)物是一種可去除的揮發(fā)性物質(zhì)，即洗滌氣體的化學(xué)成分。在成分方面，選擇正確的反應氣體成分非常重要。

在非均勻等離子體中，除了產(chǎn)生漂移波外，不同的波模在一定條件下還可以相互轉換。例如，您可以將異常波轉換為正常波或縱波。沖擊波、非碰撞沖擊波、孤立波等都是非線(xiàn)性波?？紤]到非線(xiàn)性效應，不同的波形可以相互轉換并相互激發(fā)，而縱波可以被橫波激發(fā)。波特性理論不僅研究色散關(guān)系，還研究等離子體中波的相互作用以及等離子體中波與粒子的相互作用。以上是等離子清洗廠(chǎng)家的介紹，謝謝合作。

隨著(zhù)供氣中CO2濃度從15%增加到85%，CH4的轉化率逐漸提高，從以下結果可以看出轉化率。 CO2 百分比變化的峰值。當CO2濃度為50%～65%時(shí)，達到24%左右。研究表明，在等離子等離子體的作用下，CO2 對 CH4 進(jìn)行氧化的一個(gè)重要步驟是產(chǎn)生活性物質(zhì)。即等離子體產(chǎn)生的高能電子與 CH4 和 CO2 分子發(fā)生彈性或非彈性碰撞。 CH 不斷被破壞。 , CHX (X = 1-3) 產(chǎn)生自由基。

線(xiàn)纜plasma刻蝕機器