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2.等離子刻蝕原理及應用:等離子蝕刻是通過(guò)化學(xué)或物理作用,或物理和化學(xué)的結合來(lái)實(shí)現的。含有離子、電子、自由基等活性物質(zhì)等離子體的反應室內氣體的輝光放電,通過(guò)擴散吸附在介質(zhì)表面,與表面原子發(fā)生化學(xué)反應,形成揮發(fā)性物質(zhì)。...在一定壓力下,高能離子還會(huì )物理沖擊和腐蝕介質(zhì)表面,去除再沉積反應產(chǎn)物和聚合物。介電層的蝕刻是通過(guò)物理化學(xué)和物理化學(xué)的共同作用完成的。

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