等離子體的應用領(lǐng)域有很多，氧等離子體去膠設備我們之前討論的都是工業(yè)制造應用，今天小編就帶大家了解一下等離子體是否可以在樹(shù)脂表面進(jìn)行改性。采用臭氧等離子體對插入式芳綸織物進(jìn)行預處理，對其表面進(jìn)行改性，并對其染色工藝進(jìn)行優(yōu)化。結果表明,樹(shù)脂改性層與染料分子親和力更高,從而大大提高了芳綸織物的染色和染色深度比例,并獲得高耐摩擦色牢度和光線(xiàn),但失去了耐高溫和芳綸織物的阻燃性能在一定程度上。

從上面可以看出，氧等離子處理增加羥基等離子體去除油漬的過(guò)程可以理解為有機大分子逐漸降解的過(guò)程，最終形成水和二氧化碳等小分子，這些小分子被排除在氣態(tài)。氧等離子體形成過(guò)程可以用以下六個(gè)反應來(lái)表示:O2—O2 + e(1)。O2—2- o (2)O2 + e—O2 + e(3)。

2.1化學(xué)清洗表面反應是以化學(xué)反應為基礎的等離子體清洗。案例1:O2 + e - - > 2o + e -O※+有機質(zhì)→CO2+H2O從反應公式可以看出，氧等離子處理增加羥基氧等離子體可以通過(guò)化學(xué)反應將不揮發(fā)的有機物轉化為揮發(fā)性的H2O和CO2。示例2:H2 + e - > 2h是+ e -H※+不揮發(fā)性金屬氧化物→金屬+H2O從反應公式可以看出，氫等離子體可以通過(guò)化學(xué)反應去除金屬表面的氧化層，清潔金屬表面。

等離子體清洗根據選用的工藝氣體不同可分為化學(xué)清洗、物理清洗和物理化學(xué)清洗?；瘜W(xué)清洗:以表面反應為基礎的化學(xué)反應等離子體清洗，氧等離子處理增加羥基也稱(chēng)PE。例1:O2+ E -→2O※+ E - O※+有機質(zhì)→CO2+ h2o2從反應公式可以看出，氧等離子體可以通過(guò)化學(xué)反應將不揮發(fā)性有機質(zhì)轉化為揮發(fā)性H2O和CO2。

氧等離子體去膠設備

氬是一種常見(jiàn)的有效的物理等離子體清潔氣體，因為它的原子大小。能對試樣表面施加很大的力。正氬離子吸引負極板。震動(dòng)足以清除表面的污垢。然后用真空泵抽走氣體污物。2)O2:在化學(xué)過(guò)程中，等離子體與樣品表面的化合物發(fā)生反應。例如，有機污垢可以通過(guò)氧等離子體處理器去除，在那里氧等離子體與污垢反應產(chǎn)生CO2、CO和水。在大多數情況下，化學(xué)反應會(huì )去除(3)H2:氫可以用于去除金屬表面的氧化物。它經(jīng)常與氬混合以提高去除速度。

當Vds=10V時(shí)，飽和流量為0.0687A/ mm =68.7mA/ mm。當Vgs=2V和Vds=10V時(shí)，B試樣增加的飽和電流為0.0747A/ mm =74.7mA/ mm。結果表明，經(jīng)氧等離子體處理后，器件表面沒(méi)有損傷，但器件的飽和電流有所增加。經(jīng)血漿處理后的樣品高于處理前。這表明經(jīng)過(guò)氧等離子體處理后，該裝置的大跨度導向和性能得到了改善。經(jīng)氧等離子體處理后，HEMT器件的閾值電壓出現負位移。

主要適用范圍適用于金屬及非金屬制品，特別適用于不耐熱、不耐潮濕物品的滅菌，主要包括運動(dòng)醫學(xué)、婦科、外科、耳鼻喉科、眼科、泌尿科等內鏡器械，如關(guān)節鏡、腹腔鏡、鼻竇內鏡、電切術(shù)、輸尿管鏡、電凝線(xiàn)、電鉆、電鋸及其他物品的消毒。公司是由一批長(cháng)期從事等離子體技術(shù)應用研究、設備制造和銷(xiāo)售的行業(yè)資深人士創(chuàng )辦的。

如果您對等離子表面清洗設備有更多的疑問(wèn)，歡迎咨詢(xún)我們(廣東金來(lái)科技有限公司)

氧等離子體去膠設備

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等離子體處理后，氧等離子處理增加羥基玻璃表面產(chǎn)生了羥基、羧基等游離活性粒子，提高了它們的能量。強酸聚氨酯膠粘劑與玻璃表面有較強的相互作用，其中羥基(活性)和羧基游離態(tài)顯著(zhù)。與傳統的清洗方法相比，等離子體表面活性法可以正確處理各種形狀的原型，對于形狀復雜的原型，等離子體清洗方法可以找到更好的解決方案。運行成本低:全自動(dòng)運行，24小時(shí)連續工作，無(wú)需人工護理，運行功率低至500W。