激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲波等離子體，pp附著(zhù)力問(wèn)題怎么辦反應為物理反應，清洗系統的離子密度低。等離子體13.56MHz的主體是高頻等離子體，等離子體的反應是物理和化學(xué)的，離子密度和能量都很高。 2.45GHz等離子體為微波等離子體，離子濃度高，反應為化學(xué)反應。

例如，塑膠上pp附著(zhù)力促進(jìn)劑氧等離子體的密度受放電功率的影響很大。 (4)暴露時(shí)間：待清洗材料在等離子體中的暴露時(shí)間對其表面清洗效果和等離子體工作效率影響很大。曝光時(shí)間越長(cháng)，清洗效果越高，但工作效率越低。此外，長(cháng)時(shí)間清潔會(huì )損壞材料表面。 (5)傳輸速度：在常壓等離子清洗過(guò)程中，處理大型物體時(shí)，會(huì )出現連續傳輸的問(wèn)題。因此，被清洗物與電極的相對運動(dòng)速度越慢，處理效果就越高，但如果速度太慢，就會(huì )影響工作效率。

優(yōu)良的熱穩定性、化學(xué)穩定性、機械強度。通過(guò)等離子體聚合沉積的聚合物薄膜的結構與普通聚合物薄膜的結構不同。等離子表面處理設備可以為自然界增添新的能力，pp附著(zhù)力問(wèn)題怎么辦在多方面提高材料的性能。

因此，pp附著(zhù)力問(wèn)題怎么辦在與常規等離子體相同的平均能量下，粒子的能量分布比等離子體的能量分布要好得多，并且在與靶材反應的過(guò)程中不會(huì )損傷靶材的深層原子。由于這一優(yōu)勢，氣體簇離子束在許多方面都非常有用。等離子表面處理機的表面平滑化、表面分析、淺注入、薄膜沉積、顆粒去除、蝕刻反應等。隨著(zhù)能量的增加，從氣團沉積過(guò)渡到氣團蝕刻、氣團淺注入和各種其他反應。

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射頻(rf)電源功率低，在真空等離子體清洗機中選用的基本上是真空腔體積較小的設備，由于其使用頻率相對較高，雖然分子、離子獲得的動(dòng)能較高，無(wú)需中頻，但能量密度高，在射頻客體耦合的放電過(guò)程中，極板產(chǎn)生的自偏置受放電壓力的影響，自偏置較小。電子的功率吸收主要來(lái)自于與極板表面振蕩鞘層的相互作用。因此，射頻等離子清洗設備的激發(fā)頻率越高，電子的功率吸收相對就越高，相應的離子轟擊能量就會(huì )降低。

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