解吸是等離子體清洗機中等離子體與固體材料表面的界面，附著(zhù)力好的熱固性樹(shù)脂電子、離子、光子和中性粒子將能量傳遞給吸附在固體材料表面的原子或分子，使這些原子或分子克服吸附力離開(kāi)固體表面，通常包括離子解吸、電子解吸、中性粒子解吸和光解吸。

（1）化學(xué)反應化學(xué)反應中常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(02)、甲烷(CF4)等，附著(zhù)力好的熱固性樹(shù)脂這些氣體在等離子體中反應成高活性自由基，方程是這些自由基會(huì )進(jìn)一步與材料表面發(fā)生反應。其反應機理主要是利用等離子體中的自由基與材料表面反應。壓力較高時(shí)，有利于自由基的產(chǎn)生。因此，如果化學(xué)反應是主要反應，就需要控制較高的壓力來(lái)反應。

40kHz的自偏置約為0V, 13.56mhz的自偏置約為250V, 20MHz的自偏置更低。這三種激勵頻率具有不同的機制。40kHz的反應是物理反應，附著(zhù)力好的熱固性樹(shù)脂13.56mhz的反應是物理反應和化學(xué)反應。20MHz有物理反應，但更重要的反應是化學(xué)反應。對于需要活化修飾的材料，40kHz的自偏置約為0V, 13.56mhz的自偏置約為250V, 20MHz的自偏置更低。三種激勵頻率具有不同的機制。

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附著(zhù)力好的熱固性樹(shù)脂

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什么樹(shù)脂有附著(zhù)力好的材料