介紹了含氧極性基，附著(zhù)力小于一級如羥基、羧基等活性分子。選用了低溫等離子發(fā)生器，用以退鍍表層處理，可更好清理缺陷涂層。用以玻璃蓋板、顯示觸摸屏、保護片、光學(xué)材料、電子電路等工業(yè)用鍍膜次品的返修處理。對于A(yíng)F、AS、AG、AR等涂裝工藝，選用等離子預處理裝置(一般選用低溫常壓旋轉式噴涂等)，對基底表面進(jìn)行精細的預處理清洗、蝕刻和活化，可以得到非常薄的高張力涂層表面，有助于噴涂藥液結合力強，厚薄均勻。

被處理的板不需要加熱，當壁面附著(zhù)力小于表面張力因為PTFE被處理成反應性的，界面張力增加。一旦真空室超過(guò)控制壓力，開(kāi)啟工作氣體和射頻電源。。等離子體器件在提高硬盤(pán)質(zhì)量領(lǐng)域的成功應用:隨著(zhù)經(jīng)濟的快速發(fā)展，公眾的生活水平不斷提高，消費品市場(chǎng)對質(zhì)量的需求也越來(lái)越高。隨著(zhù)工藝問(wèn)題的不斷提出和新材料的不斷出現，越來(lái)越多的科研機構已經(jīng)認識到等離子體技術(shù)的重要性。

在相同的效果下，當壁面附著(zhù)力小于表面張力等離子體發(fā)生器處理表層的運用可以得到非常薄的高張力涂覆表層，不需要任何的其余機械設備、有機化學(xué)處理等強功效成份來(lái)提高粘接性。

IC半導體它的主要生產(chǎn)制程是在50年代以后發(fā)明的，附著(zhù)力小于一級起初是由于集成電路的各種元器件及連接線(xiàn)很精細，那么在制程過(guò)程中就容易出現灰塵，或者有機物等污染，極其容易造成晶片的損壞，使其短路，為了要排除這些制程過(guò)程中產(chǎn)生的問(wèn)題，在后來(lái)的制程過(guò)程中導入了等離子設備進(jìn)行前處理，利用真空等離子設備是為了更好的保護我們的產(chǎn)品，在不破壞晶圓表面的性能的情況下來(lái)很好的利用等離子設備進(jìn)行去除表面有機物和雜質(zhì)等。

當壁面附著(zhù)力小于表面張力

等離子清洗機已成為優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品的表面性能處理的必要工具。

KIM等使用大氣壓DBD電漿制備負載型催化材料；JEON和LEE成功制備了AU納米催化材料。利用大氣壓DBD放電氫冷卻等離子體，有效地將PD2+還原為PD元素。如XU等常壓冷等離子體處理產(chǎn)生的PD/TIO2具有較高的光催化活性。 QI等人采用常壓DBD放電等離子體法獲得了PD/C催化材料，所得樣品粒徑小，在低溫下表現出較高的催化活性。。

在必定條件下還能使樣品外表特性產(chǎn)生改動(dòng)。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，所以能有效防止樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也能對樣品進(jìn)行消毒和滅菌。等離子清洗機現已廣泛應用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、資料科學(xué)、高分子、生物醫學(xué)、微觀(guān)流體學(xué)等領(lǐng)域。

如硅片刻蝕工藝所采用的CF4/O2等離子體，當壓強較低時(shí)離子轟擊起主導作用，而隨著(zhù)壓強的增加，化學(xué)刻蝕不斷加強并逐漸占據主導作用。電源功率及頻率對等離子清洗效果的影響電源的功率對等離子體各參數都有影響，比如電極的溫度、等離子體產(chǎn)生的自偏壓以及清洗效率等。隨著(zhù)輸出功率的增加，等離子清洗速度逐漸加強，并逐漸穩定在一個(gè)峰值，而自偏壓則隨著(zhù)輸出功率的增加不斷上升。

當壁面附著(zhù)力小于表面張力