，支架等離子體表面清洗設備而其他的都是基于當前駕駛理論的1/E模型。 E 模型也稱(chēng)為熱化學(xué)模型。該模型表明，TDDB在低電場(chǎng)強度和高溫下發(fā)生的原因是電場(chǎng)促進(jìn)了電介質(zhì)原子鍵的熱擊穿，外加電場(chǎng)可以延長(cháng)極性分子鍵并使其在熱過(guò)程。會(huì )更高。電場(chǎng)的存在降低了破壞分子鍵所需的能量，因此降解速率隨電場(chǎng)呈指數增加。如果斷裂鍵或滲透點(diǎn)的局部密度足夠高，則形成從陽(yáng)極到陰極的導電通路，此時(shí)發(fā)生失效，對應的時(shí)間就是失效時(shí)間。

在某些情況下，支架等離子體表面清洗設備此結果不能完全取決于確定是否滿(mǎn)足處理要求。例如，在去除顆粒的過(guò)程中，水滴角測試無(wú)法顯示顆粒是否已被去除。接觸角測試儀是一種用寬幅等離子裝置測量各種材料表面加工前后水滴角度的裝置。這取決于被加工材料的分子或結構結構。不同的初始表面能材料在等離子體處理前后具有不同的表面反應。因為相同，加工后的角度不同，尤其是有機材料。

接觸角測量簡(jiǎn)單快速，支架等離子去膠設備作為一種高靈敏度的表面性質(zhì)測試技術(shù)，可以準確表征材料經(jīng)過(guò)等離子體處理后表面能的動(dòng)態(tài)變化過(guò)程[21, 22]。等離子處理后，高分子材料表面的接觸角明顯降低，但隨著(zhù)時(shí)間的推移接觸角逐漸增大，這種變化反映了高分子材料表面極性基團的衰減。等離子處理的老化。由于高分子材料的結晶度與老化密切相關(guān)，因此高分子材料的結晶度可以通過(guò)等離子體處理后材料表面接觸角的變化特征來(lái)推斷。

它還增加了形成的自由基的濃度，支架等離子體表面清洗設備并增加了自由基通過(guò)重組形成產(chǎn)物的可能性。因此，隨著(zhù)等離子表面處理裝置產(chǎn)量的增加，C2H6的轉化率和C2H2的收率呈上升趨勢。 C2H4和CH4收率隨著(zhù)等離子注入量的增加呈小幅上升趨勢，可能與C2H4和CH4是該反應的主要反應產(chǎn)物，C2H2更穩定、有性有關(guān)。

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冷等離子體的能量約為幾十電子伏特，其中所含的離子、電子、自由基等活性粒子很容易與固體表面的污染物分子發(fā)生反應并解吸。清潔效果。同時(shí)，冷等離子體的能量遠低于高能射線(xiàn)的能量，因此該技術(shù)只接觸材料表面，不影響材料基體的性能。等離子清洗是一個(gè)干燥的過(guò)程。因為它使用電能催化反應，它提供了一個(gè)寒冷的環(huán)境，消除了安全、可靠和環(huán)保的濕化學(xué)清洗的風(fēng)險和排放物。

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