表面涂有各種材料，FPC等離子體刻蝕設備以達到疏水性（疏水性）、吸濕性（吸濕性）、疏油性（耐油性）和疏油性（耐油性）。。等離子發(fā)生器能量密度對H2氣氛中C2H6脫氫反應的影響影響。 C2H6脫氫反應：隨著(zhù)H2濃度的增加，C2H6的轉化率和C2H2、C2H4、CH4的收率均增加。這表明H2的加入有利于C2H6的轉化以及C2H2和C2H4的生成。 CH4。

1990年代以來(lái)，FPC等離子體刻蝕設備人們開(kāi)始尋求等離子體活化方法和等離子體催化協(xié)同活化方法來(lái)進(jìn)行低碳烷烴的轉化反應。常壓低溫等離子體中的甲烷轉化反應：甲烷（CH4）是天然氣的主要成分，占天然氣總量的90%以上。天然氣儲量非常豐富。 2015年世界天然氣探明儲量為1.97X1021M3，我國天然氣可采儲量為4.94X1018M3。近年來(lái)，石油資源的緊缺使得天然氣以其豐富的儲量成為21世紀最有前景的能源化工原料替代品之一。

從以上實(shí)驗結果可以推斷出等離子體條件下C2H6轉化反應的過(guò)程，FPC等離子體刻蝕設備以及等離子體作用下甲烷轉化反應的機理和等離子體的特性。 (1) 等離子體場(chǎng)產(chǎn)生高能電子。自由電子在電場(chǎng)E的作用下被加速，產(chǎn)生高能電子e*。 e + E → e * (3-26) (2) 引發(fā)自由基反應。高能電子與乙烷分子發(fā)生彈性和非彈性碰撞。

等離子體發(fā)生器的表面處理對高分子材料表面的腐蝕，FPC等離子體刻蝕設備主要考慮等離子體中的電子和離子粒子對材料表面的影響，或等離子體中化學(xué)活性物質(zhì)的化學(xué)腐蝕。材料的表面。當等離子體在材料表面散射時(shí)，材料表面會(huì )產(chǎn)生細微的不規則性。物質(zhì)受到刺激，在等離子體中分解成氣態(tài)成分，擴散回物質(zhì)表面。因此，侵蝕。在再聚合的同時(shí)，在被處理材料的表層上形成大量突起，使材料表層變得粗糙，等離子體發(fā)生器增加了材料與粘結材料的接觸面積。這將提高粘合強度。

FPC等離子體刻蝕設備

低溫表面等離子處理裝置等離子裝置靠近電極，等離子裝置通過(guò)高壓電極、負極接地電極、中心高耐壓絕緣層，產(chǎn)生的離子作用于其上。用于實(shí)現材料分子的材料表面。斷鏈、表面蝕刻、氧化等物理化學(xué)反應增加了材料的表面粗糙度，增加了表面張力，改善了界面結合性能。一般來(lái)說(shuō)，表面等離子處理裝置的等離子速率越慢，在相同放電功率下，處理時(shí)間越長(cháng)，等離子作用的程度越大。在普通功率條件下處理后，裝飾單板的表面性能穩定而優(yōu)良。

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