在真空等離子設備的清洗過(guò)程中，真空活化機除了形成低溫等離子體的化學(xué)變化外，低溫等離子體還與原料表面形成物理反應。低溫等離子體粒子可以將原料表面或原料附著(zhù)表面的原子敲掉，有利于清洗蝕刻反應。
它們也可以被原子結構的力學(xué)所操縱表面基板的損壞。這些表面基團后來(lái)可能參與表面反應和成鍵。真空等離子體處理是一種低溫工藝，真空活化機作用一般為40~120C，可以避免熱損傷。這個(gè)過(guò)程產(chǎn)生一個(gè)熱自由表面激活反應，它不會(huì )在大氣壓力下發(fā)生，這取決于分子的化學(xué)成分。這些獨特的特性可以為材料和產(chǎn)品開(kāi)辟新的可能性。等離子體處理是在一個(gè)受控的環(huán)境中，在一個(gè)密封的腔室中進(jìn)行，引入選定的氣體，以保持腔室處于中等真空，通常為13至65Nm2。
研究了氧等離子體和空氣等離子體(頻率13.56mhz，真空活化機作用真空度1TORr，充放電輸出功率100 W)處理棉織物芯吸收性能與工藝標準的關(guān)系。對棉織物進(jìn)行大氣等離子清洗60秒，氧等離子處理30秒。棉織物的脫蠟、脫漿效果(果)達到了正常沸騰漂白的程度。
其基本原理是在真空低壓下，真空活化機ICP射頻電源向環(huán)形耦合線(xiàn)圈產(chǎn)生有一定份額的射頻輸出通過(guò)耦合輝光放電腐蝕氣體混合,高密度等離子體,我電極射頻等離子體的作用下在襯底表面進(jìn)行炮擊,襯底圖形區域半導體材料的化學(xué)鍵被中斷,和蝕刻氣體生成的揮發(fā)性物質(zhì),以氣體的形式從襯底,遠離真空管。蝕刻機與光刻機的區別蝕刻比光刻容易。光刻機打印圖片，蝕刻機從打印的圖片上切下有(或沒(méi)有)圖片的部分，剩下的部分留下。。
真空活化機
真空等離子清洗設備所使用的真空是羅茨泵的分類(lèi)和工作:在介紹低壓真空等離子清洗設備真空泵組時(shí)，真空活化是什么意思我們提到羅茨式真空泵是由油型和干型真空泵組組成的二次泵。羅茨泵如何分類(lèi)?它是如何工作的?羅茨真空泵是根據美國羅茨兄弟發(fā)明的原理而設計的一種真空泵。對于一些需要高真空或高真空速度的大室真空等離...
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