等離子體與材料表面的化學(xué)反應主要包括物理反應和自由基反應。等離子體表面物理反應機理研究等離子體與材料表面之間的物理反應主要是純物理函數。材料表面的原子或附著(zhù)在材料表面的離子被離子敲出。在低壓下，鐵氟龍等離子活化機離子的平均自由基很輕，能量被儲存起來(lái)。因此，在發(fā)生物理碰撞的情況下，離子能量越高，越容易發(fā)生碰撞，所以我們需要重點(diǎn)關(guān)注物理反應。抑制低壓下的化學(xué)反應，提高清洗效果。

其物理意義在于高頻放電等離子體處理后鐵電體疇反轉所需的能量降低，鐵氟龍等離子體表面處理設備非線(xiàn)性增強。高頻高壓等離子發(fā)生器的設計與研究 高頻高壓等離子發(fā)生器的設計與研究：等離子體作為物質(zhì)的第四態(tài)，以其獨特的離子效應、優(yōu)良的導電性和顯著(zhù)的聚集體而著(zhù)稱(chēng)。以運動(dòng)行為為特征 已在能源、信息材料、化工、醫藥、空間物理等領(lǐng)域得到廣泛評價(jià)和應用。在等離子的應用和推廣的同時(shí)，各個(gè)領(lǐng)域對等離子發(fā)生器設計的要求也越來(lái)越高。

，鐵氟龍等離子活化機而其他的都是基于當前駕駛理論的1/E模型。 E 模型也稱(chēng)為熱化學(xué)模型。該模型表明，TDDB在低電場(chǎng)強度和高溫下發(fā)生的原因是電場(chǎng)促進(jìn)了電介質(zhì)原子鍵的熱擊穿，外加電場(chǎng)可以延長(cháng)極性分子鍵并使其在熱過(guò)程。會(huì )更高。電場(chǎng)的存在降低了破壞分子鍵所需的能量，因此降解速率隨電場(chǎng)呈指數增加。如果斷裂鍵或滲透點(diǎn)的局部密度足夠高，則形成從陽(yáng)極到陰極的導電通路，此時(shí)發(fā)生失效，對應的時(shí)間就是失效時(shí)間。

用等離子體技術(shù)處理固體表面后，鐵氟龍等離子體表面處理設備可用接觸角定量測量表面的潤濕性，接觸角儀可直接測量接觸角。接觸角的一些潤濕性條件如下所示。接觸角為 0 表示物體完全濕潤，液體有助于在固體表面擴散。大于零且小于 90 度的接觸角表明該表面是部分潤濕的并且該表面是親水的。如果接觸角為90度，就是潤濕的分界線(xiàn)，如果接觸角超過(guò)90度，就沒(méi)有潤濕，這就是疏水接觸角。液體在固體表面凝結成一個(gè)大球體。如果接觸角為 180 度，則完全不潤濕。

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3. 電極和接地裝置將高頻電壓施加到真空室中以分解氣體。 ，等離子由輝光放電體產(chǎn)生，在真空室內產(chǎn)生的等離子完全覆蓋被處理材料并開(kāi)始清洗操作。一個(gè)典型的清潔過(guò)程可持續幾十秒到幾十分鐘。 4、清洗后，關(guān)閉電源，排氣，用真空泵將污垢蒸發(fā)掉。

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