如果您對等離子表面清洗設備有更多的疑問(wèn)，電芯plasma清潔設備歡迎咨詢(xún)我們(廣東金來(lái)科技有限公司)

(d)原料表面層的功能僅涉及納米級的處理，電芯plasma清洗設備(e)處理溫度低，對原料表面無(wú)損傷，常用樣品處理后能長(cháng)時(shí)間保持良好效果。根據客戶(hù)需求配置管道生產(chǎn)計劃(3)產(chǎn)品結構等離子體設備主要由高壓勵磁主機電源、等離子體發(fā)生器噴嘴和自動(dòng)控制系統組成。A、等離子設備高壓激勵主機電源:等離子的產(chǎn)生必須采用高壓激勵，常壓等離子設備采用中頻電源激勵，頻率為10-40khz。高電壓4-10kV，可根據樣品實(shí)際情況調整參數達到效果。

壓合速度:快160mm/s，電芯plasma清洗設備檢測速度:0.1-10mm/s，壓合速度:0.1-5mm/s6。設備最大開(kāi)啟高度:根據產(chǎn)品特點(diǎn)定制。壓頭與下工作面的相對平行度:≤0.02mm/ mm8。壓頭移動(dòng)時(shí)相對于下工作面的垂直精度:0.02 mm/mm以?xún)?。壓力安裝可調行程:0-200mm，可控，重復精度:±0.01mm10。壓力顯示值與實(shí)際壓力誤差:1%。

如果您對等離子表面清洗設備有更多的疑問(wèn)，電芯plasma清洗設備歡迎咨詢(xún)我們(廣東金來(lái)科技有限公司)

電芯plasma清洗設備

如果您對等離子表面清洗設備有更多的疑問(wèn)，歡迎咨詢(xún)我們(廣東金來(lái)科技有限公司)

較小的電極間距可以將等離子體限制在狹窄的區域內，從而獲得更高的等離子體密度，實(shí)現更快的清洗速度。隨著(zhù)清洗速度的增大，間距逐漸減小，均勻性卻逐漸增大，電極的尺寸通常決定了等離子體系統的整體容量，等離子體清洗系統中電極平行分布，電極通常用作托盤(pán)，較大尺寸的電極可以清洗更多的元件，提高設備效率。

如果您對等離子表面清洗設備有更多的疑問(wèn)，歡迎咨詢(xún)我們(廣東金來(lái)科技有限公司)

10、應用范圍廣，凈化功率高，特別適用于其他方式處理多組分惡臭氣體，如化工、制藥等行業(yè)。此外，低溫等離子體廢氣處理設備占地面積小;電子能量高，可以簡(jiǎn)單地與所有惡臭氣體分子相互作用;運行成本低;響應快，停止很快，隨用隨開(kāi)。

電芯plasma清潔設備

如果您對等離子表面清洗設備有更多的疑問(wèn)，電芯plasma清潔設備歡迎咨詢(xún)我們(廣東金來(lái)科技有限公司)

因此,這個(gè)設備的設備成本不高,和清洗過(guò)程不需要使用更昂貴的有機溶劑,使總體成本低于傳統濕法凈化過(guò)程;7,使用等離子體清洗,避免清洗液體運輸、存儲、放電和其他治療措施,所以生產(chǎn)站點(diǎn)很容易保持清潔和衛生;8、等離子體清洗不能治療,它可以處理各種材料、金屬、半導體、氧化物、或高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂和其他聚合物)可以使用等離子體處理。