等離子體表面清洗設備的應用；1.清洗光學(xué)器件、電子元件，蓋玻片親水性清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡等各種鏡片、載玻片，去除光學(xué)元件、半導體元件表面的光刻膠物質(zhì)，清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體、寶石；2.口腔領(lǐng)域：對有機硅沖壓材料和鈦牙移植物進(jìn)行預處理，增強其潤濕性和相容性；3.醫療領(lǐng)域：假肢移植物表面預處理，增強浸潤、粘附、相容性，醫療器械消毒滅菌；4.提高用于粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫用材料、航空航天材料等的膠水的附著(zhù)力；5、去除金屬材料表面的氧化物；6.活化玻璃、塑料、陶瓷、高聚物等材料表面，增強其表面附著(zhù)力、潤濕性和相容性；7.高分子材料的表面改性。

它可以對金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等各種幾何形狀、不同表面粗糙度的物體進(jìn)行表面改性，蓋玻片親水性去除樣品表面的有機污染物。真空等離子體清洗設備可以清洗半導體元件、光學(xué)元件、電子元件、半導體元件、激光器件、鍍膜基板、終端設備等，同時(shí)還可以清洗光學(xué)鏡片，清洗各種鏡片和載玻片，如光學(xué)鏡片、電鏡載玻片等，同時(shí)真空等離子體清洗設備還可以去除光學(xué)元件和半導體元件表面的氧化物、光刻膠，以及金屬材料表面的氧化物。

圓形蓋玻片用作基底材料，蓋玻片親水性硝酸銀溶液或 AgNPs 懸浮液用作可噴涂添加劑。為保證涂層的抗菌效果，采用體積比為1：1的異丙醇和水的混合溶液制備硝酸銀。使用閥門(mén)、蠕動(dòng)泵和加壓氣體（通常是氮氣）將該溶液直接噴射到等離子體上。樣品臺可以在 x 和 y 方向移動(dòng)。 UV-Vis光譜、粒度測量和TEM證實(shí)，該方法可用于制備具有抗菌活性的含銀層，對革蘭氏陰性大腸桿菌有很強的抗菌作用。

隨著(zhù)皮革工業(yè)的發(fā)展，羥基化后玻片親水性的影響國內外對皮革及皮革制品提出了更高、更新的要求，推動(dòng)了皮革技術(shù)的不斷提高。如何提高印染率、降低能耗和環(huán)境污染已成為皮革染整行業(yè)亟待解決的問(wèn)題之一。通過(guò)對皮革染色機理的分析，將不同的活性基團如羰基、羧基、羥基和胺基引入膠原纖維中進(jìn)行氧化、開(kāi)裂和腐蝕。結果表明:染色率高，皮革顏色均勻飽滿(mǎn)，染色皮革的干、濕摩擦牢度、水洗牢度和溶劑牢度均優(yōu)于常規染色。

玻片親水性

結果表明，等離子體處理可以增加纖維表面粗糙度，增加纖維染色深度，改善尼龍纖維的染色性能，對纖維強度無(wú)明顯影響。大氣等離子清洗機技術(shù)在紡織品中的應用日益廣泛，可用于織物上漿、退漿、麻脫膠、羊毛防氈、合成纖維親水處理、高性能纖維的粘結增強等。大氣大氣等離子清洗可以有效改善尼龍纖維和聚合物的表面性能，這主要是因為氧低壓或大氣等離子可以將氧元素以羥基和羧基的形式引入纖維表面，從而提高其親水性。

這種氧化反應產(chǎn)生的官能團在增加表面能和加強與樹(shù)脂基體的化學(xué)鍵合方面非常有效。其中包括羰基(-C=O-)。羧基(HOOC-)、氫過(guò)氧化物（HOO-）和羥基（HO-）基團。等離子體表面處理對材料表面的影響主要表現在表面清潔、去除有機和無(wú)機污染物、表面活化、提高材料表面能和消除靜電三個(gè)方面。

除了氣體的壓力之外，等離子體射流的長(cháng)度受所施加的功率的影響，其可在60-500W的范圍內調節，不需要額外的冷卻。濃縮的HMDSO用作前驅體。前驅體在管狀的等離子體中反應，在襯底上沉積SiOx膜。圓形蓋玻片用作基底材料，硝酸銀溶液或AgNPs懸浮液用作可噴霧添加劑。為了保證涂層的抗菌作用，硝酸銀在異丙醇和水體積比為1：1的混合溶液中制備。用閥門(mén)、蠕動(dòng)泵和加壓氣體（通常為氮氣）將該溶液直接噴入等離子體中。

濃縮的HMDSO被用作前驅體。前驅體在管狀等離子體中發(fā)生反應，在襯底上沉積SiOx薄膜。以圓蓋玻璃為基材，硝酸銀溶液或銀納米粒子懸浮液為噴涂添加劑。為保證涂層的抗菌效果，用異丙醇與水的體積比為1:1的混合物制備了硝酸銀。溶液通過(guò)閥門(mén)、蠕動(dòng)泵和加壓氣體(通常是氮氣)直接噴射到等離子體中。樣品架可在x、Y方向移動(dòng)。

羥基化后玻片親水性的影響

特別是偏壓刻蝕后，蓋玻片親水性玻璃的透光率從91%提高到94.4%，玻璃表面的親水性增強，接觸角θ從47.2°變?yōu)?.4°，自清潔性能得到改善。對于太陽(yáng)能電池上的蓋玻片，其透過(guò)率直接影響太陽(yáng)能電池的發(fā)電效率，但玻璃表面有反射，導致光能損失。