有些材料表面光滑,塑膠件電鍍影響附著(zhù)力因素在使用膠水相互粘接時(shí),往往不牢固,或不持久,明顯影響產(chǎn)品質(zhì)量。使用等離子清洗機可以對材料表面進(jìn)行處理,達到蝕刻效果(效果),提高材料之間的附著(zhù)力和耐久性,顯著(zhù)提高良率和產(chǎn)品質(zhì)量。等離子清洗機表面粗化及蝕刻:不同材料利用相應的氣體組合形成強的蝕刻氣體等電離與材料表面的化學(xué)反應和物理沖擊,使固體材料在材料表面氣化,CO.CO2、H2O等氣體,達到微蝕刻的目的。

附著(zhù)力因素

在工業(yè)清洗中,塑膠件電鍍影響附著(zhù)力因素需要盡可能少的成本,盡可能少的對環(huán)境的影響,去除工件表面的多余材料。清洗的目的包括提高涂層與表面的附著(zhù)力,提高涂裝和印刷產(chǎn)品的質(zhì)量。。用低溫等離子體發(fā)生器測量左右墊封裝帶處理前后的接觸角;IC塑料密封時(shí),要求塑料密封材料與芯片、載體、金屬鍵合銷(xiāo)等不同材料具有良好的粘接性。如果有污漬或表面活性差,塑料密封臺就會(huì )剝落。經(jīng)低溫等離子體發(fā)生器清洗后,可有效提高表面活性、附著(zhù)力和可靠性。

等離子表面處理設備利用等離子中各種高能物質(zhì)的(活化)作用,塑膠件電鍍影響附著(zhù)力因素對附著(zhù)在物品表面的(完整)表面的污垢進(jìn)行分離和清潔。很明顯,這種有害的等離子表面處理設備去除了工件表面的油污。等離子體對油漬的作用類(lèi)似于油漬的燃燒反應,只是它們在低溫下燃燒?;驹恚河捎贠2等離子體中的氧原子官能團、激發(fā)的氧分子、電子和紫外線(xiàn)的共同作用,油分子被氧化成水和二氧化碳分子,從制品表面除去。

如電子產(chǎn)品中,濺射附著(zhù)力因素LCD/OLED屏的涂覆處理、PC塑膠框粘結前處理;機殼及按鍵鈕等結構件的表面噴油絲??;PCB表面的除膠除污清潔、鏡片膠水粘貼前的處理;電線(xiàn)、電纜噴碼前的處理;汽車(chē)工業(yè)車(chē)燈罩、剎車(chē)片、車(chē)門(mén)密封膠條的粘貼前的處理;機械行業(yè)金屬零部件的細微無(wú)害清潔處理;鏡片鍍涂前的處理;各種工業(yè)材料之間接合密封前的處理;三維物體表面的改性處理…等等。

濺射附著(zhù)力因素

濺射附著(zhù)力因素

plasma等離子清洗機等離子清洗機應用環(huán)境:在等離子設備中使用正確的氣體以獲得所需的粘合性或印刷性非常重要。 有豐富的等離子活化項目經(jīng)驗,可為不同材料的客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)。氫被用在聚四氟乙烯產(chǎn)品中,而氮通常是混合在一起形成氫氮的特殊混合。塑膠產(chǎn)品經(jīng)常使用氧氣。在處理金屬時(shí),我們通常加入氬氣以防止氧化。在plasma等離子清洗機等離子體表面改性中,常采用氧和氬。

(2)化學(xué)作用  其反應機理主要是利用等離子體里的自由基來(lái)與材料表面做化學(xué)反應,在化學(xué)反應里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、氬氣(Ar)等,這些氣體會(huì )反應成高活性的自由基進(jìn)一步與塑膠材料表面發(fā)生反應。塑膠工件的應用極為廣泛。

[Williams, B.E. and Glass, m J.T., J.Mater. Res. 4(2)(1989):373-384] 4.偏壓增強形核:在微波等離子體化學(xué)氣相堆積中,基體一般是加負偏壓,即基體的電位相關(guān)于等離子體來(lái)說(shuō)是低電位。負偏壓的作用是增加了基體外表附近的離子濃度。過(guò)高的偏壓會(huì )因為過(guò)多的離子對基體外表和前驅核的濺射而按捺形核,因而偏壓增強形核時(shí)偏壓的大小要適宜。。

等離子清洗機中常用的一些頻率差異是:中頻:高自偏壓、低等離子體密度、高離子能量、高工藝溫度和不需要的濺射; RF:低自偏壓、高等離子體密度、高離子能量;微波:無(wú)自偏壓,離子濃度最高,能量最低,均勻度低。中頻等離子體產(chǎn)生的反應是物理反應,高頻等離子體產(chǎn)生的反應既是物理反應又是化學(xué)反應,微波等離子體產(chǎn)生的反應是化學(xué)反應。

濺射附著(zhù)力因素

濺射附著(zhù)力因素

硫等離子體對GaAs樣品的鈍化不會(huì )造成明顯的雜質(zhì)污染,塑膠件電鍍影響附著(zhù)力因素特別是鈍化效果相對穩定,更適合于GaAs光電器件的鈍化過(guò)程。用射頻等離子體清洗劑對GaAs基板表面進(jìn)行干法鈍化。射頻等離子體的鈍化效果受襯底溫度、濺射功率和降解溫度的影響。通過(guò)優(yōu)化硫等離子體的鈍化條件,樣品的發(fā)光強度提高了71%,發(fā)光穩定性更好。。