等離子清洗還具有以下特點(diǎn):易于使用數控技術(shù),熱轉印涂層附著(zhù)力自動(dòng)化程度高;高精度的控制裝置,高精度的時(shí)間控制;正確的等離子清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證。由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不受二次污染。。等離子體清洗原理及影響清洗效果的主要因素1。等離子體清洗是依靠特定物質(zhì)等離子體在高能粒狀流中的沖擊來(lái)清洗物體表面,通過(guò)物理沖擊(如氬等離子體)或化學(xué)反應(氧等離子體)來(lái)完成清除物體表面污漬的功能。
集成電路制造中引線(xiàn)鍵合的質(zhì)量對微電子器件的可靠性有重大影響。此外,熱轉印涂層的附著(zhù)力粘合區域必須干凈,并具有良好的粘合性能。氧化物和有機殘留物等污染物的存在會(huì )顯著(zhù)降低引線(xiàn)鍵合拉力值。通過(guò)寬帶等離子表面處理機使用等離子清洗,將過(guò)程中產(chǎn)生的污垢徹底去除,有效去除污垢,活化污垢表面,大大提高打線(xiàn)強度,集成電路有效提高的可靠性。設備。
3.使用三氯乙烷等ODS這種清洗方法屬于環(huán)保綠色清洗方法,熱轉印涂層的附著(zhù)力因為它使用有害溶劑,清洗后不會(huì )產(chǎn)生有害污染物。隨著(zhù)世界對環(huán)境保護的極大興趣,這一點(diǎn)變得越來(lái)越重要。第四,無(wú)線(xiàn)電范圍內的高頻產(chǎn)生的等離子體不同于激光等直射光。等離子的方向不強,深入到微小的孔洞和凹陷的物體內部完成清洗工作,所以不需要考慮被清洗物體的形狀。此外,這些難清洗部位的清洗效果等同于或優(yōu)于氟利昂清洗。五。等離子清洗可用于顯著(zhù)提高清洗效率。
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等離子體處理過(guò)程包括化學(xué)反應和物理反應?;瘜W(xué)過(guò)程:在化學(xué)等離子體過(guò)程中,自由基與被清洗物體表面的元素發(fā)生化學(xué)反應的反應。這些反應的產(chǎn)物是非常小的、易揮發(fā)的分子,可以用真空泵泵出。在有機清潔應用中,主要的副產(chǎn)品通常包括水、一氧化碳和二氧化碳?;诨瘜W(xué)反應的等離子體清洗,清洗速度快,選擇性好,是去除有機污染物最有效的。缺點(diǎn)是氧化發(fā)生在表面。
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