傳統的液晶顯示屏和電容式觸摸屏的生產(chǎn)過(guò)程中，為了使得屏與控制電路可靠的連接，需要將屏上引線(xiàn)部分的ITO玻璃表面覆蓋薄膜金屬，通過(guò)采用化學(xué)鍍銅的方法可以簡(jiǎn)單、有效的實(shí)現ITO金屬化。常規的化學(xué)鍍銅工藝主要包括以下四個(gè)步驟：前處理→活化→解膠→化學(xué)鍍銅。由于前處理工序對于ITO玻璃表面清潔程度處理不到位，影響到后面的活化工藝的均勻性，最終會(huì )使化學(xué)鍍銅層出現易剝落，不均勻、清潔度差等問(wèn)題。等離子體清洗可以使ITO玻璃表面改性、去除ITO表面的殘余離子，使后續的活化、鍍銅工藝順利進(jìn)行。未經(jīng)等離子體表面清洗的基板潔凈度較差,而經(jīng)等離子體清洗過(guò)的基板潔凈度有所改善,并且隨著(zhù)處理功率和時(shí)間的增加,鍍層潔凈度變高。等離子體表面處理可以改善鍍層潔凈度的原因是,等離子體中的荷能粒電子頻繁碰撞玻璃基片表面,使玻璃基片表面吸附的異物產(chǎn)生脫附或分解,最后被真空泵抽走,達到清洗目的同時(shí),等離子體清洗形成的微觀(guān)粗化表面是原子或分子級的,從宏觀(guān)上看,基片表面去除水汽、污物后,更加平整和均勻。這些都能夠提高化學(xué)鍍銅層的清潔度。
經(jīng)過(guò)等離子體表面處理后，ITO玻璃其水接觸角減小，表面能提高，潤濕性得到改善。由于化學(xué)鍍銅所用的溶液均為水溶液，因此經(jīng)等離子體清洗后的ITO表面與溶液的潤濕性更好。
等離子體清洗改善ITO玻璃化學(xué)鍍銅層附著(zhù)力的原因
當ITO玻璃基片處在等離子體中時(shí),由于表面受到等離子體中的荷能粒電子的轟擊,首先基片表面吸附的環(huán)境氣體、水汽、污物等被轟掉,使表面清潔活化,表面能提高,當沉積時(shí)薄膜原子或分子更好地浸潤基片,增大范德華力。其次玻璃基片表面經(jīng)過(guò)荷能粒電子的撞擊,從微觀(guān)上看,基片表面會(huì )形成許多凹坑、孔隙,在沉積過(guò)程中薄膜原子或分子進(jìn)人這些凹坑、孔隙,便產(chǎn)生了機械鎖合力。此外基片表面的粗化,使實(shí)際的表面積增大,這對增大范德華力、擴散附著(zhù)力和靜電力都是有利的,因此增大了總的附著(zhù)力。
在化學(xué)鍍銅工藝中增加等離子體清洗工序,能夠減小ITO玻璃表面的水接觸角、提高鍍銅層的清潔度和附著(zhù)力。同時(shí),通過(guò)優(yōu)化等離子體的處理條件,可使化學(xué)鍍銅層的性能得到進(jìn)一步改善。24543