暴露在紫外光下的區域迅速凝結成固體光刻膠,CCP等離子刻蝕經(jīng)過(guò)曝光、顯影和蝕刻,形成每個(gè)層結構所需的圖案。在處理后一層時(shí),需要在前一次涂敷后將光刻膠完全去除。從預定義圖形中去除不需要的區域、保留剩余區域以及將圖形轉移到選定圖形的過(guò)程需要等離子處理。等離子處理具有以下優(yōu)點(diǎn):獲得滿(mǎn)意的輪廓,鉆孔小,表面選擇。此外,對電路的損壞小、清潔、經(jīng)濟、安全。選擇性高,刻蝕均勻性好,重現性好。加工過(guò)程無(wú)污染,潔凈度高。
根據要處理的材料和目的,CCP等離子刻蝕機器等離子清洗機可以達到各種處理效果。等離子清洗機在半導體行業(yè)的應用包括等離子蝕刻、開(kāi)發(fā)、脫膠和包裝。在半導體集成電路中,真空等離子清洗機的蝕刻工藝不僅可以蝕刻表面的光刻膠,還可以蝕刻下面的氮化硅層。通過(guò)調整真空等離子清洗機的一些參數,可以形成氮化硅層的特定形貌,即側壁刻蝕斜率。
氮化硅的缺點(diǎn)是流動(dòng)性不如氧化物,CCP等離子刻蝕機器難于蝕刻。等離子蝕刻可以克服蝕刻的困難。 2 等離子刻蝕的原理及應用 等離子刻蝕是通過(guò)化學(xué)或物理作用,或物理與化學(xué)的結合來(lái)實(shí)現的。反應室內含有離子、電子、自由基等活性物質(zhì)的等離子體的氣體輝光放電,通過(guò)擴散吸附在介質(zhì)表面,與介質(zhì)表面的原子發(fā)生化學(xué)反應,形成揮發(fā)性物質(zhì)。 .同時(shí),高能離子在一定壓力下對介質(zhì)表面進(jìn)行物理沖擊和蝕刻,以去除再沉積的反應產(chǎn)物和聚合物。
與化學(xué)溶劑預處理方法不同的是,CCP等離子刻蝕這種方法不需要干燥或臨時(shí)儲存,不僅省去了特定的工藝步驟,而且可以使在大氣等離子體清洗和活化后立即噴涂的零件增加。這一步驟顯著(zhù)降低了能源消耗和運營(yíng)成本,提高了產(chǎn)量和產(chǎn)品質(zhì)量。大氣壓等離子表面處理設備 大氣壓等離子表面處理設備:在大氣壓等離子技術(shù)中,引入壓縮空氣等氣體,將高壓激發(fā)氣體電離成常壓等離子體,從噴嘴噴出等離子體。 出去。
CCP等離子刻蝕設備
大氣壓等離子表面處理設備利用等離子噴嘴中所含的活性粒子對材料進(jìn)行準確的活化和清洗。此外,氣體加速活化噴霧可去除從表面散落的附著(zhù)顆粒。工藝參數的變化,例如處理速度和到襯底表面的距離,會(huì )在不同程度上影響處理結果。為提高各種塑料等產(chǎn)品的噴涂、印刷或涂膠質(zhì)量,需要對產(chǎn)品進(jìn)行表面處理。傳統的表面處理工藝包括機械研磨、化學(xué)溶劑、火焰、電暈等方法。雖然這些工藝中的每一個(gè)都具有技術(shù)優(yōu)勢和特點(diǎn),但工藝和應用存在一定的局限性。
(1) 大氣壓等離子設備清洗后的零件是否可以再加工? A:備件的存放時(shí)間因操作時(shí)間和材料而異,但可能需要幾分鐘到幾個(gè)月。因此,一般需要進(jìn)行現場(chǎng)測試。 (2)常壓等離子設備的清洗部件應該如何存放?答:它不需要存放在室外,因為它會(huì )附著(zhù)灰塵、(有機)污染物和水分。收縮包裝部件的保質(zhì)期明顯長(cháng)于存放在室外的部件。
在眾多方法中,等離子可以在常壓下產(chǎn)生,無(wú)需復雜的真空系統,只作用于材料表面而不損害材料的主要性能,降低能耗并實(shí)現高效率。材料。表面改性要求。殼聚糖廣泛存在于甲殼類(lèi)動(dòng)物如蝦、蟹和甲殼類(lèi)動(dòng)物的殼中,以及細菌和藻類(lèi)的細胞壁中。其儲量是僅次于纖維素的第二大分子材料。作為抗菌劑,殼聚糖具有優(yōu)異的生物相容性、廣域抗菌作用、殺菌率和抑菌作用,在抗菌整理領(lǐng)域備受關(guān)注。
有機硅和聚氨酯等聚合物的表面摩擦系數高于其他材料。這種材料制成的儀器經(jīng)過(guò)等離子表面活化處理后,在表面涂上一層摩擦系數較低的聚合物,使表面更加光滑。例如,等離子體表面活化后,可以提高水凝膠涂層對醫用導管表面的附著(zhù)力,從而降低醫用導管與血管壁之間的摩擦。與導尿管、呼吸道和心血管系統,或內窺鏡/腹腔鏡手術(shù)器械、體液接觸時(shí)很滑,與這些光滑的醫療器械接觸時(shí)很滑。眼科材料的插管。表面,它們不會(huì )粘在那些表面上。
CCP等離子刻蝕
對薄膜基材進(jìn)行等離子處理,CCP等離子刻蝕機器還可以有效改善薄膜的表面性能,增加表面的濕張力,延緩其衰減,并顯著(zhù)提高薄膜的表面性能。
選擇品牌:相比歐美成熟的清洗應用技術(shù),CCP等離子刻蝕它的發(fā)展時(shí)間長(cháng),應用范圍廣,清洗設備比較完善。目前,我國等離子清洗機行業(yè)正處于快速發(fā)展壯大階段,部分企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量和技術(shù)水平或可媲美。因此,客戶(hù)應選擇成熟的品牌,以保證設備長(cháng)期正常運行,并保持良好的使用效果。等離子清洗機品牌很多,洗衣機產(chǎn)品的質(zhì)量和技術(shù)水平,專(zhuān)業(yè)的售前售后服務(wù)團隊,設備的穩定性和可靠性,生產(chǎn)成本的性?xún)r(jià)比,公司的科學(xué)研發(fā)能力,應該整體選擇。。
ccp刻蝕的工作原理