1.電暈發(fā)生器（點(diǎn)擊查看詳情）按電暈火焰溫度劃分：（1）高溫電暈：溫度相當于108～109K的完全電離電暈，電暈處理機qx310如太陽(yáng)和受控熱核聚變電暈。（2）低溫電暈：電暈發(fā)生器熱電暈：致密高壓（1大氣壓以上）、溫度103～105K等電弧、高頻和燃燒電暈。

電暈技術(shù)參數光束光斑處理寬度3-10毫米（可選）標準導管長(cháng)度3米-6米供給需求電源220 V/50 Hz，電暈處理機qx310單相，(**4安培）壓力收縮空氣干洗空氣（6巴，88 psi)，1275升/小時(shí)其他可用氣體N2,N2/H2,O2,C O2,He體重25公斤。電暈清洗的主要特點(diǎn)是不管被處理對象的襯底類(lèi)型如何都能處理，電子行業(yè)也能處理得很好。它只需要很低的氣流就能實(shí)現整體、局部和復雜結構的清洗。

電暈表面處理設備常問(wèn)的問(wèn)題！1.電暈器設備的處理時(shí)間？電暈設備對聚合物表面的化學(xué)修飾是由于自由基。電暈設備處理時(shí)間越長(cháng)，電暈處理和火花處理有什么不同放電功率越大，因此需要很好的掌握。2.電暈器的威力有多大？常用電暈設備的功率約為1000瓦。3.電暈處理器處理的產(chǎn)品可以保存多久？這是基于產(chǎn)品本身的材料。

（一）高壓激勵電源：電暈的產(chǎn)生需要高壓激勵，電暈處理機qx310用頻率為10-40kHz的中頻電源激勵大氣低溫電暈。高壓為4-10kV?？筛鶕悠返膶?shí)際情況調整參數，獲得優(yōu)良穩定的處理效果。(B)電暈發(fā)生器噴槍?zhuān)撼旱蜏仉姇灠l(fā)生器噴槍可分為射流直噴和旋轉直噴兩種。區別在于處理區域不同，可根據用戶(hù)要求配套自動(dòng)化生產(chǎn)線(xiàn)方案。

電暈處理機qx310

接下來(lái)，我將與大家分享：根據反應類(lèi)型的不同，電暈清洗系統的清洗技術(shù)可分為兩種：電暈物理清洗，即利用活性粒子和高能射線(xiàn)轟擊分離污染物；電暈化學(xué)清洗，即活性粒子與雜質(zhì)分子的反應使污染物揮發(fā)分離。（1）激發(fā)頻率對電暈的清洗類(lèi)型有一定影響如超聲電暈（激發(fā)頻率，40kHz)的反應多為物理反應；微波電暈（激發(fā)頻率2.45GHz)中的反應大多是化學(xué)反應。

紡織工業(yè)紡織行業(yè)使用電暈進(jìn)行各種非同一處理工藝的目的是對各種不同要求的紡織產(chǎn)品，如天然纖維，達到優(yōu)異的印染效果。電暈處理后，不僅印染效果顯著(zhù)提高，而且纖維表面質(zhì)量提高，使用壽命延長(cháng)。5，手表涂層腕表表盤(pán)將進(jìn)行涂層處理，以達到所需的色彩效果，提高耐磨壽命。在手表表盤(pán)進(jìn)行涂層之前，需要使用電暈清潔劑去除表盤(pán)表面原有的污染物，激活表面活性，使涂層附著(zhù)更加牢固。

高分子材料的表面改性主要受以下三個(gè)參數的影響：1.射頻功率；2.改性時(shí)間，也叫電暈表面處理時(shí)間；3.氣體流量，即進(jìn)氣量。PDMS的鍵合效果不僅與表面改性方法有關(guān)，還與表面改性后的鍵合時(shí)間、鍵合時(shí)間和鍵合壓力有關(guān)。對于不同的產(chǎn)品，產(chǎn)品的材質(zhì)、表面硬度、活性條件都有很大差異。因此，電暈在產(chǎn)品表面使用時(shí)，必須找到合適的工藝參數進(jìn)行處理。

密封圈是工業(yè)設備的關(guān)鍵部件，用于將機械設備的各個(gè)部件連接到機械零件上。采用優(yōu)質(zhì)石棉制成耐酸堿石棉，用于小型真空電暈火焰加工機。它由化學(xué)纖維、耐酸堿化學(xué)纖維、填料、添加劑等制成，耐磨、耐溫、密封性好，主要用于真空電暈火焰處理器真空泵殼體。電暈火焰處理器中使用的數據氣壓計是一個(gè)電子數字壓力電源開(kāi)關(guān)，可以實(shí)時(shí)顯示壓力數據和輸出壓力報警。瞬時(shí)壓力和設定低壓以數據形式呈現，視覺(jué)效果強，可合理避免誤解。

電暈處理和火花處理有什么不同

四、電暈清洗管帽管帽存放時(shí)間長(cháng)了，電暈處理和火花處理有什么不同表面就老了，還可能被污染。清洗電暈去除污染后封蓋，可顯著(zhù)提高封蓋合格率。陶瓷包裝通常采用金屬膏體印刷線(xiàn)作為粘接區和蓋板封合區在這些材料表面電鍍鎳之前，采用電暈清洗去除有機污染，提高鍍層質(zhì)量。

電暈常用頻率的差異及應用隨著(zhù)電暈科學(xué)基礎研究的需要和工業(yè)對可靠電暈處理系統日益增長(cháng)的需求，電暈處理和火花處理有什么不同電暈源已由19世紀的氣體放電裝置逐漸演變?yōu)楝F代先進(jìn)的生產(chǎn)設備。利用直流、射頻和微波電場(chǎng)將氣體電離可用于制造電暈源。