精拋光生產(chǎn)工藝耗時(shí)長(cháng)，美甲底膠附著(zhù)力不大生產(chǎn)能力低，底膠不能配合擠出設備在線(xiàn)加工，如工序，通常分階段選擇拋光工藝，增加帶材表面粗糙度，而精拋光生產(chǎn)工藝耗時(shí)長(cháng)，生產(chǎn)能力低，不能配合擠出設備在線(xiàn)加工，容易造成二次污染。即便如此，隨著(zhù)產(chǎn)品要求的不斷提高，汽車(chē)制造工藝已無(wú)法滿(mǎn)足部級和歐洲標準的要求。

以往通常采用人工分段打磨的工藝，底膠附著(zhù)力強以增加膠條表面粗糙度，并涂上底膠，打磨工藝流程費時(shí)費力、產(chǎn)能低、不能配合擠出設備在線(xiàn)處理、容易造成二次污染、成本高，產(chǎn)品合格率低等諸多弊端。

因為這些汽車(chē)密封橡膠條材料的表面張力很低，美甲底膠附著(zhù)力不大在使用絨布、植絨、PU、硅膠等涂裝工藝時(shí)，材料不易粘結，過(guò)去常采用人工分段打磨工藝來(lái)增加膠條表面粗糙度，再涂上底膠，打磨工藝流程費時(shí)費力，生產(chǎn)效率低，無(wú)法配合擠出設備進(jìn)行在線(xiàn)處理，容易造成二次污染，成本高，產(chǎn)品合格率低。盡管如此，隨著(zhù)對產(chǎn)品要求的不斷提高，其磨削工藝已無(wú)法滿(mǎn)足汽車(chē)生產(chǎn)的部標和歐標要求。

該裝置利用高頻高壓能電離真空等離子體脫膠反應室中的氧離子和游離氧原子。氧分子與電子混合等離子體，甲油膠和底膠附著(zhù)力不行其中自由氧原子氧化能力強（約10-20%)，在高頻電壓下與晶圓光刻膠膜反應:O2-RARR；O*+O*,CxHy+O*&Rarr；CO2&UARR；+H2O&UARR；反應后立即提取合成的CO2和H2O。表面等離子體處理設備等離子體除膠的優(yōu)點(diǎn)是除膠操作簡(jiǎn)單，除膠效率高，表面清潔光滑，無(wú)劃痕，成本低，環(huán)保。

底膠附著(zhù)力強

等離子離子清洗設備是一種新的清洗技術(shù)，它有著(zhù)除污能力強、效果好、非接觸、使用簡(jiǎn)易等優(yōu)勢，有著(zhù)寬闊的應用前景。在等離子清洗設備清洗環(huán)節中，具有著(zhù)許多復雜的物理環(huán)節，如等離子體的產(chǎn)生、沉積能的積累等，這些物理環(huán)節對顆粒物有直接的影響。 硅基底表面有直徑10~2納米的粒子，這些粒子在等離子清洗設備的影響下，除了極小的納米粒子以外，基本上完全被除去。

技術(shù)參數技術(shù)參數及功能： 1.設備具有多重安全保護功能，操作安全，溫度、濕度變化多樣，對粉塵多（散布纖維）的惡劣工況適應性強，抗過(guò)載能力強，24小時(shí)連續運行成為可能。全天穩定可靠。 2.輸出電壓高達KV，連續可調輸出電流大，最大輸出功率10mA：1KW。

如果電容C滿(mǎn)足較大的要求，電壓變化不大，則電容可以滿(mǎn)足較大的電流，滿(mǎn)足負載狀態(tài)電流的要求。相當于把大氣等離子體清潔器的一小部分電能提前儲存起來(lái)，等到需要負載時(shí)再釋放出來(lái)，也就是說(shuō)電容器就是儲能元件。整個(gè)電廠(chǎng)儲能電容器的存在，可以快速補充負荷消耗的能量，從而保證負荷兩端電壓不會(huì )有太大變化。此時(shí)，電容器承擔了部分電源的作用。從儲能角度理解功率解耦，直觀(guān)易懂，但對電路規劃沒(méi)有幫助。

因此，負載型堿土金屬氧化物催化劑在等離子條件下的催化活性順序為BAO/Y-AL2O3>SRO/Y-AL2O3>CAO/Y-AL2O3>MGO/Y-AL2O3。堿土金屬氧化物對C2烴類(lèi)產(chǎn)品分布的影響表明，它們對C2烴類(lèi)產(chǎn)品的分布影響不大。 2號炔烴是主要的 C2 烴類(lèi)產(chǎn)品。

底膠附著(zhù)力強

等離子等離子正彎（沿等離子等離子弧方向彎曲）正彎分為加熱和冷卻兩個(gè)過(guò)程。加熱過(guò)程中，底膠附著(zhù)力強高能量密度等離子弧作用于待彎板，使患處上表面材料溫度在短時(shí)間內急劇上升；但由于遠離上表面的材料沒(méi)有受到直接照射，在這短時(shí)間內，附近的溫度變化不大，因此受影響部位在板厚方向形成較大的溫度梯度。由于上表，材料的溫度很高，因此，其熱膨脹大，屈服極限低，導致非均勻壓縮塑性變形和材料堆積。