可以看出通過(guò)等離子清洗過(guò)后，聚醚醚酮金屬附著(zhù)力產(chǎn)品的性能改變得到了很顯著(zhù)的提升。的優(yōu)點(diǎn)： 處理速度快、清潔效率高、可靠度高 可控制低的離子能量、不損傷基板 。結合化學(xué)反應性及物理撞擊性，處理均勻性佳，設備可移除氧化物，可使用多種制程氣體，設備穩定高，容易維護。

。工作壓力對等離子清潔效果的干擾: 工作壓力是等離子清潔的重要參數之一。壓力的提升意味著(zhù)等離子密度的提升和粒子平均能量的減低?；瘜W(xué)反應主導的等離子密度的提升可以顯著(zhù)提高等離子系統的清潔速度，聚醚醚酮金屬附著(zhù)力而物理轟擊主導的等離子清潔系統效果并不明顯。此外，壓力的變化可能會(huì )致使等離子清潔反應機制的變化。

一層面，提升聚醚醚酮的表面附著(zhù)力低溫等離子發(fā)生器利用其高能顆粒的物理作用清洗易氧化或還原的物體，Ar+轟擊污垢形成揮發(fā)性污垢，由真空泵抽走，避免表面原料反應；另一方面，Ar容易形成亞穩態(tài)原子，接著(zhù)在與氧氫分子碰撞時(shí)轉換和組合電荷，在物體表面形成氧氫活性原子。。

一般清洗處理持續幾十秒到幾分鐘。清洗完畢后切斷高頻電壓，提升聚醚醚酮的表面附著(zhù)力并將氣體及汽化的污垢排出，同時(shí)向真空室內鼓入氣體，并使氣壓升至一個(gè)大氣壓。給一組電極通上射頻電源，電極之間形成高頻交變電場(chǎng)，區域內氣體在交變電場(chǎng)的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對物體表面進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)抽真空排出，而達到表面處理的目的。。

提升聚醚醚酮的表面附著(zhù)力

等離子體又稱(chēng)等離子體，是一種被電離的氣體物質(zhì)，由原子失去一些電子和原子電離后產(chǎn)生的正負電子組成。它廣泛存在于宇宙中，常被認為是除固體、液體和氣體外物質(zhì)存在的第四種狀態(tài)。等離子體可分為兩類(lèi):高溫等離子體和低溫等離子體。低溫等離子體的電離率低，電子溫度遠高于離子溫度，離子溫度甚至可以媲美室溫。

為便于比較，現將三種活化條件下的CO2氧化CH4制C2烴反應的結果列于表4-3，由表4-3 可見(jiàn)：在催化活化法中，當反應溫度高達1 K時(shí)，甲烷可以轉化為C2烴，雖然C2烴選擇性較高，但甲烷轉化率很低，因此C2烴收率僅為2%。

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聚醚醚酮金屬附著(zhù)力