等離子轟擊清洗技術(shù)是一門(mén)新型的高效清洗技術(shù),可以用于半導體或其他材料的表面改性處理]和清潔處理。等離子轟擊清洗技術(shù)也可用于汽車(chē)燈具噴底漆或鍍膜之前的工件表面清潔和活化處理。等離子轟擊清洗技術(shù)
等離子轟擊清洗作為一種材料表面處理方法，在惰性氣體保護氛圍下，通過(guò)輝光放電使惰性氣體電離產(chǎn)生大量的離子及等離子體，在基體偏壓及外加磁場(chǎng)的控制下，大量的離子高速向基體飛去并發(fā)生轟擊作用。離子轟擊可有效地清除基體表面的氧化膜及其他雜質(zhì)，實(shí)現基體表面清潔作用。另外，大量的離子持續轟擊基體表面，產(chǎn)生類(lèi)似于噴丸處理的效果，導致基體表面的應力狀態(tài)發(fā)生改變、產(chǎn)生塑性變形、促進(jìn)了基體表面缺陷的產(chǎn)生，甚至對基體的表面粗糙度也存在著(zhù)影響，繼而達到了基體的表面改性。而這些基體的表面改性會(huì )降低原子的擴散激活能、提供擴散通道甚至擴散驅動(dòng)力，從而促進(jìn)了原子的擴散。因此，離子轟擊一方面有效去除了基體表面氧化膜，起到了表面清潔作用；另一方面改變了基體表面狀態(tài)，實(shí)現了基體的表面改性。這兩方面的作用均對原子的擴散起到有利的影響，繼而實(shí)現了基體的表面活化。
等離子轟擊清洗技術(shù)應用
鍍膜前等離子轟擊清洗
等離子體會(huì )轟擊基體表面，可以進(jìn)一步清洗基體表面以及轟擊出基體表面與基體結合不牢固的原子。此外，等離子體的轟擊還有利于進(jìn)一步清洗基片表面的雜質(zhì)以及促進(jìn)偽擴散層的形成，這些均有利于增大薄膜的附著(zhù)力。在鍍膜過(guò)程，等離子轟擊可以改善鍍層質(zhì)量，阻止凝聚態(tài)的優(yōu)勢生長(cháng)，從而有利于生成更為均勻致密平整，附著(zhù)力更大的薄膜。
引線(xiàn)鍵合前等離子轟擊清洗
電路組裝之前,基板表面不可避免地會(huì )引入有機污染物,這將導致后續引線(xiàn)鍵合過(guò)程中鍵合不上或鍵合引線(xiàn)拉力值減小,使得可靠性下降。等離子轟擊清洗可以通過(guò)離子轟擊使基板和芯片表面的污染物雜質(zhì)解吸附并去除雜質(zhì),使得引線(xiàn)鍵合拉力值提高,可靠性提高。24792