等離子清洗設備 等離子清洗設備 等離子清洗設備 簡(jiǎn)介：反應室采用扁平電極結構，IC等離子體除膠促進(jìn)等離子體的均勻分布。射頻功率等離子體發(fā)生器的選擇及其頻率是確保同等等離子體質(zhì)量和工藝靈活性的兩個(gè)重要參數。對于清潔應用，RF 發(fā)生器的頻率是衡量氣體是否被充分激發(fā)到等離子體狀態(tài)的量度。 13.56MHZ是最常用的頻率。此外，RF 發(fā)生器具有與之關(guān)聯(lián)的匹配網(wǎng)絡(luò )。如果阻抗負載不能準確調整，軸承波反饋會(huì )損壞射頻發(fā)生器。

在射頻等離子設備的氮化過(guò)程中，IC等離子體除膠等離子的產(chǎn)生和板偏壓控制是分開(kāi)的，所以離子能量和板面通量可以分開(kāi)控制。由于工作壓力低，氣體消耗量相應減少。使用低能量直流輝光放電產(chǎn)生NH自由基進(jìn)行氮化，并使用這些高活性自由基進(jìn)行氮化需要外部電源在整個(gè)過(guò)程中加熱工件。這個(gè)過(guò)程類(lèi)似于氣體氮化。在這個(gè)過(guò)程中，不僅可以控制表面拓撲結構，還可以在不改變表面結構屬性的情況下，選擇是否形成復合層，控制復合層的厚度和厚度。擴散層的深度。

腐蝕性氣體等離子體具有高度的各向異性，IC等離子體除膠可以滿(mǎn)足蝕刻需要。 等離子處理之所以稱(chēng)為輝光放電處理，是因為它會(huì )發(fā)出輝光。是專(zhuān)業(yè)的等離子。一家集表面處理設備研發(fā)、制造、銷(xiāo)售為一體的高科技公司。公司基于十多年的等離子表面處理設備制造經(jīng)驗和與國際知名等離子配件廠(chǎng)家的良好合作，設計開(kāi)發(fā)了BP-880系列真空等離子表面處理設備。 以產(chǎn)品質(zhì)量和表面處理效果完全替代進(jìn)口產(chǎn)品。

并且，IC等離子體除膠設備形狀、寬度、高度、材質(zhì)、工藝類(lèi)型，以及是否需要對材料進(jìn)行在線(xiàn)處理，直接影響并決定了整個(gè)等離子表面處理設備的解決方案。 PET噴塑前等離子等離子表面處理裝置又稱(chēng)等離子、等離子噴涂裝置、等離子表面破碎機, 等離子平面磨床等PET塑料預噴等離子表面處理設備可對多種材料的表面進(jìn)行清洗、再生、涂層等徹底清洗或改性，而不損傷物體表面。

IC等離子體除膠機器

等離子清洗機的結構及操作過(guò)程的基本結構：等離子清洗裝置的類(lèi)型和氣體的種類(lèi)可根據應用選擇，調節裝置的基本結構大致通用，可配置高頻電源，點(diǎn)擊，氣體引入系統，工作傳輸系統和控制系統。常用的真空泵是旋轉油泵。高頻電源通常使用 13.56MHz 的無(wú)線(xiàn)電波。該設備的操作過(guò)程如下。 (1)將需要清洗的工件送至真空室并固定。 , 啟動(dòng)操作裝置，開(kāi)始排氣和疏散。腔體真空度達到10Pa左右的標準真空度。

在用等離子清洗機清洗物體之前，有必要先分析清洗過(guò)的物體和污垢，然后再進(jìn)行氣體選擇。一般來(lái)說(shuō)，將氣體引入等離子清洗機有兩個(gè)目的。根據等離子體的作用原理，可選氣體可分為兩類(lèi)：氫氣和氧氣等反應性氣體。主要使用氫氣。用于清潔金屬表面。氧化物引起還原反應。等離子清洗機主要用于清洗物體表面的有機物，發(fā)生氧化反應。另一種類(lèi)型是使用非反應性氣體（如氬氣、氦氣和氮氣）的等離子清洗機。氮等離子處理可以提高材料的硬度和耐磨性。

等離子清洗機的清洗原理及面板結構等離子清洗機的清洗原理及面板結構的清洗原理等離子是物質(zhì)存在的狀態(tài)。通常，一種物質(zhì)以三種狀態(tài)存在：固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)，但在特殊情況下，存在三種第三種狀態(tài)。它就像地球大氣層的電離層物質(zhì)一樣存在。以下物質(zhì)以等離子體狀態(tài)存在：快速移動(dòng)的電子、活化的中性原子、分子、自由基、電離的原子和分子、未反應的分子、原子等。它總體上保持電中性。

等離子表面處理預處理工藝確保了墨盒之間快速、高效和可靠的粘合。直接跡象是：膠粘質(zhì)量更可靠，膠盒不會(huì )從源頭打開(kāi)。不再依賴(lài)進(jìn)口高（級）膠粘劑。它經(jīng)濟、環(huán)保、成本低。消除（去除）紙邊的過(guò)程，減少紙塵對周?chē)h(huán)境和人體呼吸道的危害。這種新材料在提高紙盒性能和質(zhì)量的同時(shí)，對膠盒的制造提出了新的挑戰。為確保物品被牢固地粘附，物品表面必須具有良好的粘合強度才能達到預期的效果。

IC等離子體除膠設備