在線(xiàn)真空等離子體清洗機專(zhuān)注于等離子體表面改性或等離子體表面處理應用。它利用等離子體的高能量和不穩定性對被處理材料的表面進(jìn)行清潔、活化和活化，附著(zhù)力促進(jìn)劑常用添加量從而改變表面的微觀(guān)結構、化學(xué)性質(zhì)和能量。等離子體與物體表面的相互作用可分為物理作用(離子轟擊)和化學(xué)作用。其物理化學(xué)反應機理是活性粒子轟擊被清理表面，使污染物從表面被清除，被真空泵吸出。其化學(xué)反應機理是各種活性顆粒與污染物發(fā)生反應，產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)，然后被真空泵吸出。

腐蝕性氣體等離子體具有優(yōu)良的各向異性，附著(zhù)力促進(jìn)劑的機理可以滿(mǎn)足刻蝕需要。等離子處理之所以稱(chēng)為輝光放電處理，是因為它會(huì )發(fā)出輝光。 【真空等離子裝置】 等離子處理的機理主要依靠等離子中活性粒子的“活化”，達到去除物體表面污垢的目的。從反應機理來(lái)看，等離子清洗通常涉及以下幾個(gè)過(guò)程。

plasma冷等離子體作用下O2氧化CH4反應機理制取C2烴反應：plasma等離子體引發(fā)的自由基反應與非均相催化反應很相似，附著(zhù)力促進(jìn)劑的機理但plasma等離子體是十分有效的自由基引發(fā)方式。

　　其中，附著(zhù)力促進(jìn)劑常用添加量物理反響機制是活性粒子轟擊待清洗外表，使污染物脫離zui終被真空泵吸走；化學(xué)反響機制是各種活性的粒子和污染物反響生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)，然后到達清洗目的。 　　咱們的工作氣體，常常用到氫氣（H2）、氮氣（N2）、氧氣（O2）、氬氣（Ar）、甲烷（CF4）等。

附著(zhù)力促進(jìn)劑的機理

　2、激活鍵能，交聯(lián)效果：　等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體效果到固體外表后，可以將固體外表的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵構成網(wǎng)狀的交聯(lián)結構，大大地激活了外表活性。

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除了氣體分子、離子和電子之外，等離子體還包含被能量激發(fā)態(tài)激發(fā)的帶中性原子或原子團，這些能量激發(fā)態(tài)是自由基和從等離子體發(fā)射的光。等離子體在等離子體與物體表面的相互作用中起著(zhù)重要作用。自由基，例如自由基，與表面反應。離子中的自由基具有很強的電學(xué)性質(zhì)，比離子存在的時(shí)間更長(cháng)。在等離子體中，自由基是高度揮發(fā)性的，它們的功能主要是在化學(xué)反應過(guò)程中激活（化學(xué)）能量轉移。

附著(zhù)力促進(jìn)劑常用添加量