通常，等離子體處理原理與工件距離清潔過(guò)程持續幾十秒到幾分鐘。清洗后，切斷高頻電壓，排出氣體和汽化的污垢?？諝鈮毫?。等離子體處理原理：一組電極接上高頻電源，電極間形成高頻交流電場(chǎng)，該區域的氣體被交流電場(chǎng)激發(fā)形成等離子體，活性等離子體物理地存在于物體表面，它會(huì )引起物理沖擊和化學(xué)反應。由于其雙重作用，被清洗的表面材料變成顆粒和氣態(tài)物質(zhì)，通過(guò)真空釋放出來(lái)，達到表面處理的目的。

等離子體處理原理：等離子體中粒子的能量一般在幾到幾十個(gè)電子伏特左右，等離子體處理原理與工件距離大于高分子材料能完全破壞化學(xué)鍵的鍵能（數到10個(gè)電子伏特）。有機大分子的鍵合。新加入。但它遠低于高能放射線(xiàn)，只包含材料表面，不影響基體性能。在非熱力學(xué)平衡的冷等離子體中，電子具有很高的能量，可以破壞材料表面分子的化學(xué)鍵，提高粒子的化學(xué)反應性（熱等離子體）。由于中性粒子的溫度接近室溫，這些優(yōu)點(diǎn)為熱聚合物的表面改性提供了合適的條件。

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在等離子體中，等離子體處理原理與工件距離譜線(xiàn)由于凸點(diǎn)等而擴展，當等離子體密度增加時(shí)，譜線(xiàn)的頻率向高頻方向移動(dòng)。相對論電子的回旋輻射，稱(chēng)為同步輻射或同步輻射，是一種連續光譜，同步輻射大，方向性弱，在小范圍內會(huì )聚。關(guān)于等離子體處理原理等離子體（PLASMA），也稱(chēng)為物質(zhì)狀態(tài)，不同于固體、液體和氣體的三種一般形式。這是一種特定顏色的準中性電子流，一種具有大致相等的陽(yáng)離子和電子密度的電離氣體。

等離子體處理原理與工件距離

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n12 + 188.25 n13) kJ/mol (4-5) 在式(4-5)中，n11、n2和n3分別表示以下。 n11為C2烴產(chǎn)物中C2H6的摩爾分數，mol/%，n12為C2烴產(chǎn)物中C2H4的摩爾分數，mol/%；n13為C2烴產(chǎn)物中C2H2的摩爾分數，比率為摩爾/%。

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等離子體處理原理

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