等離子清洗設備一般包括反應腔室，電控系統，射頻電源，真空系統以及操作系統等，射頻等離子清洗設備的原理是通過(guò)真空系將真空腔體袖至10-30PA左右的真空度，然后向真空腔體中通入氬氣或者氧氣等反應氣體，當真空度約為10-100PA時(shí)開(kāi)啟巧頻電源，調節射頻匹配電源，起輝形成等離子體。在真空狀態(tài)下，因為氣壓較小，分子間的間距變大，從而使得分子間的作用為變小，利用射頻電源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬氣等工藝氣體震蕩成具有高能量或者高反應活性的離子，與有機污染物或者微顆粒反應、碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)，揮發(fā)性物質(zhì)由工作氣流從真空系排出去從而達到清洗的目的。
等離子清洗設備原理
等離子體主要是通過(guò)氣體放電產(chǎn)生，應用于材料處理通常為低溫等離子體，能量只有幾十電子伏特。其作用強度高、穿透力小。具有工藝簡(jiǎn)單、高效節能、處理效果好、環(huán)境污染小等優(yōu)點(diǎn)，作用于材料表面會(huì )使其產(chǎn)生一系列的物理、化學(xué)變化。等離子清洗設備的清洗原理則是通過(guò)等離子體中所包含的具有一定反應活性或高能量的粒子，與材料表面的有機污染物或微顆粒污染物反應或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)。然后將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去。從而達到表面清潔的目的。
等離子體清洗的反應類(lèi)型還與活化氣體的種類(lèi)有關(guān)，一類(lèi)為惰性氣體被激發(fā)產(chǎn)生的等離子體(如Ar2、N2等)；另一類(lèi)為反應性氣體被激發(fā)產(chǎn)生的等離子體(如02、H2等)。氬氣等離子體清洗是典型的等離子體物理清洗工藝。主要通過(guò)離子轟擊使表面清潔而不和材料表面發(fā)生化學(xué)反應。氧氣等離子體清洗是典型的等離子體化學(xué)清洗工藝．主要通過(guò)等離子體所產(chǎn)生的活潑氧自由基與材料表面的碳氫化合物發(fā)生反應，產(chǎn)生二氧化碳和水等易揮發(fā)物．從而達到去除污染物的效果。
等離子清洗設備清洗原理
等離子體物理清洗工藝所產(chǎn)生的效果主要是材料表面的粗糙度增加。有助于提高材料表面的附著(zhù)力；等離子體化學(xué)清洗過(guò)程中材料表面活化形成的自由基，能夠進(jìn)一步加成特定的官能團。如含氧、含氮官能團等，對改善材料的粘著(zhù)性和潤濕性能起著(zhù)明顯作用。因此，對等離子體清洗類(lèi)型的選擇主要取決于材料表面的原有特征、材料表面污染物的性質(zhì)以及后續處理工藝對材料表面的特性要求等。