通過(guò)對這些應用性能的測試分析，電暈處理機常見(jiàn)故障可以依次分析高分子材料表面動(dòng)態(tài)變化的特征。例如，通過(guò)測試高分子材料與樹(shù)脂基體的界面剪切強度、部分高分子材料電暈處理后的染色性能和電學(xué)性能，可以間接反映材料表面元素組成和極性基團的變化；。用電暈處理器清洗表面可以提高表面張力。

表面性能測試方案采用接觸角分析儀和dyne筆，電暈處理機電路維修與分析可對電暈處理后的產(chǎn)品進(jìn)行及時(shí)測試。常壓電暈是實(shí)現各種制造應用解決方案的堅實(shí)平臺，膠粘劑點(diǎn)膠、粘接固定、焊接、印制電路板布線(xiàn)等只是其中的一部分?；诖髿鈮弘姇灥牟僮鬈浖咕幊毯?jiǎn)單，不需要復雜的操作方式。該系列電暈可使一名員工同時(shí)操作多臺，提高了生產(chǎn)效率。

不同能量的光子代表不同的波長(cháng)。通過(guò)對光譜的分析，電暈處理機常見(jiàn)故障可以有效地分析電暈的刻蝕過(guò)程。這種解剖診斷過(guò)程常用于半導體制造中的EDP監測。圖2電暈中的激發(fā)碰撞和光譜輻射電容耦合電暈源的典型腔室結構如下圖所示。上下電極加電，一般頻率為13.56MHz。所有墻壁的外表面都會(huì )形成所謂的暗鞘層。暗鞘層通常被認為是絕緣體或電容器，因此可以認為功率是通過(guò)電容器傳遞給電暈的。

當PD負載量從0.01%增加到1%時(shí)，電暈處理機常見(jiàn)故障C2烴產(chǎn)物中C2H4的摩爾分數逐漸降低，而C2烴產(chǎn)物中C2H6的摩爾分數逐漸增加，說(shuō)明La2O3/Y-Al2O3催化劑中PD的加入量進(jìn)一步增加，但C2烴產(chǎn)物中C2H4的摩爾分數并沒(méi)有增加，反而促進(jìn)了C2H4向C2H6的轉化，增加了C2烴產(chǎn)物中C2H6的摩爾分數。

電暈處理機電路維修與分析

除了超凈功能，電暈發(fā)生器還可以在特定條件下根據需要改變部分數據的表面特征。電暈作用于數據表面，使表面分子的化學(xué)鍵重新結合，形成新的表面特性。對于一些特殊用途的數據，在超清洗過(guò)程中電暈清洗劑的輝光放電可以增強這些數據的附著(zhù)力、相容性和潤濕性。目前廣泛應用于光學(xué)、光電子、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫學(xué)、顯微流體等領(lǐng)域。

電暈去污不需要使用整個(gè)濕法工藝線(xiàn)，降低了化學(xué)處理的成本，減少了水的使用。電暈去污時(shí)，面板放置在真空箱中，再通過(guò)電源引入氣體轉化為電暈。電暈在面板表面反應，通過(guò)真空泵去除揮發(fā)性樹(shù)脂去污。利用電暈表面處理設備去除鉆井污染的研究較多。研究人員研究了電暈機腔體的刻蝕速率分布和測定了聚酰亞胺、丙烯酸和環(huán)氧樹(shù)脂在剛柔結合板中的刻蝕速率與電暈參數的關(guān)系。

在電子領(lǐng)域，這項技術(shù)可用于清洗蝕刻混合電路、PCB板、SMT、BGA、引線(xiàn)框架、平板顯示器；在醫療領(lǐng)域，該技術(shù)還應應用于提高導管、超細導管、過(guò)濾器、傳感器等各類(lèi)醫療設置的平滑度、潤濕性等關(guān)鍵指標。

真空電暈有很多優(yōu)點(diǎn)：1.數控加工工藝的選擇智能化程度高；2.具有高精度控制設備，時(shí)間控制精度高；3.合理的電暈清洗，表面層不易產(chǎn)生損傷層，工藝性能有保證；4.清洗工作真空進(jìn)行，清洗過(guò)程環(huán)保安全，不易造成環(huán)境污染，合理保證清洗面層不易二次污染。真空電暈利用兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，利用真空泵實(shí)現有效真空度。

電暈處理機常見(jiàn)故障