因此，靜電消除器和電暈機區別這類(lèi)電暈有兩種常見(jiàn)結構，均適用于低長(cháng)寬比的放電系統。常見(jiàn)的結構之一是螺旋結構，采用圓柱形螺旋線(xiàn)圈式，如下圖所示。另一種常見(jiàn)的結構是盤(pán)卷結構，采用如下圖所示的平面盤(pán)卷式。此外，還有一種特殊的盤(pán)狀結構，就是在與機體隔離的放電式中加入一個(gè)盤(pán)繞的線(xiàn)圈，其結構如下圖所示。。

第一個(gè)方程表示氧分子獲得外部能量后變成氧陽(yáng)離子，靜電消除器電暈機廠(chǎng)家發(fā)射自由電子的過(guò)程。第二個(gè)方程表示氧分子獲得外部能量后分解形成兩個(gè)氧原子自由基的過(guò)程。第三個(gè)方程表明氧分子在高能激發(fā)自由電子的作用下轉變?yōu)榧ぐl(fā)態(tài)。第四和第五反應表明激發(fā)的氧分子發(fā)生了進(jìn)一步的轉變。在第四個(gè)反應中，氧氣使大腦饑餓以恢復正常狀態(tài)，并發(fā)射光能（紫外線(xiàn)）。在第五個(gè)方程中，激發(fā)態(tài)的氧分子分解成兩個(gè)氧原子自由基。

在電暈機技術(shù)下，靜電消除器和電暈機區別氣體發(fā)射的分解對高能電子起著(zhù)決定性的作用。數以萬(wàn)計的高能電子與氣體分子（原子）發(fā)生非彈性碰撞，將能量轉化為分子（原子）的內能，發(fā)生激發(fā)、電離度、電離等更多環(huán)節，使氣體處于活躍狀態(tài)。在低勢能(<10eV)的情況下，電子中會(huì )發(fā)生活性自由基，在體內（化學(xué)）后，發(fā)射分子會(huì )被電暈機定向鏈化學(xué)反應去除。勢能大于發(fā)射物分子化學(xué)鍵的結合能，將導致分子鍵斷裂，發(fā)射物分解。

一般情況下，靜電消除器和電暈機區別物質(zhì)以固態(tài)、商態(tài)和氣態(tài)三種情況存在，但在某些特殊情況下，可以以第四種情況存在，如太陽(yáng)表面的物質(zhì)、地球大氣層電離層的物質(zhì)等。這類(lèi)物質(zhì)所處的情況稱(chēng)為電暈情況，也稱(chēng)為潛在物質(zhì)的第四態(tài)。以下物質(zhì)存在于電暈中。高速運動(dòng)的電子；處于活性狀態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；分子解離反應過(guò)程中產(chǎn)生的紫外線(xiàn)；未反應的分子、原子等，但物質(zhì)在一般情況下仍堅持電中性。

靜電消除器和電暈機區別

40kHz的自偏壓約為0V，13.56MHz的自偏壓約為250V，20MHz的自偏壓更低，這三種激發(fā)頻率的機理不同，40kHz的反應是物理反應，13.56MHz的反應既有物理反應也有化學(xué)反應，20MHz有物理反應，但主要反應是化學(xué)反應，如果材料需要活化改性，要用13.56MHz或20MHz電暈清洗，40kHz的自偏壓約為0V。13.56MHz的自偏壓約為250V，20MHz的自偏壓較低。

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