接下來(lái)分析了電暈清洗在ITO領(lǐng)域的應用特點(diǎn)。氧化銦錫(ITO)是一種重要的透明半導體材料。一方面，電暈處理的機理它具有穩定的化學(xué)性質(zhì)，良好的透光性和導電性，因此在光電工業(yè)中得到廣泛的應用。ITO在沉積過(guò)程中形成高度簡(jiǎn)單的n型半導體。在Sn摻雜情況下，費米能級Er在導帶底EC以上，載流子濃度高，電阻率低。此外，ITO具有較寬的光學(xué)帶隙，因此可見(jiàn)光和近紅外光的透過(guò)率更高。
為了提高玻璃面板的強度和硬度，電暈處理的機理通常采用化學(xué)鋼化處理，化學(xué)鋼化前需要清洗。如果清洗不好，會(huì )影響強化效果。傳統的清洗方法是先用洗滌劑擦洗，再用酸液、堿液、有機溶劑進(jìn)行超聲波清洗，操作復雜，費時(shí)費力，容易造成污染。常壓低溫電暈是近年來(lái)各種氣體輝光放電產(chǎn)生的一種冷電暈，具有擊穿電壓低、離子和亞穩分子濃度高、電子溫度高、中性分子溫度低等優(yōu)點(diǎn)，電暈處理區域均勻，可控性好，不需要真空，可連續進(jìn)行表面清洗。
電暈清洗還具有以下特點(diǎn)：易于采用數控技術(shù)，電暈處理的機理自動(dòng)化程度高；采用高精度控制裝置，時(shí)間控制精度很高；正確的電暈清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，確保清洗面不受二次污染。。電暈的關(guān)鍵是低溫電暈的應用，低溫電暈的應用主要取決于高溫、高頻、高能量等外界條件。它是一種電中性的、高能的、完全或部分電離的氣態(tài)物質(zhì)。
高能離子凈化系統在歐洲主要應用于醫院、辦公樓、公共大廳等，一種高阻隔共擠膜電暈處理裝置近年來(lái)逐漸發(fā)展應用于污水處理。荷蘭、瑞典等國都有不少例子。電暈中有機物的降解機理主要包括以下過(guò)程：（1）在高能電子作用下，產(chǎn)生強氧化自由基·O、·OH和·HO2。（2）。有機分子被高能電子激發(fā)，原子鍵裂開(kāi)形成基團和原子的小碎片。
電暈處理的機理
電暈由電子、離子、自由基、光子和其他中性粒子組成。由于電暈中電子、離子、自由基等活性粒子的存在，容易與固體表面發(fā)生反應。電暈的清洗機理主要依靠電暈中活性粒子的“活化”來(lái)去除物體表面的污漬。就反應機理而言，電暈清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機氣體被激發(fā)成電暈態(tài)；氣相物質(zhì)吸附在固體表面；吸附基團與固體表面分子反應形成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子分解形成氣相；反應殘留物從表面除去。
據了解，自20世紀90年代以來(lái)，國外對放電電暈的技能和使用的研究發(fā)展迅速，對放電電暈機理和特性的研究與使用的工業(yè)聯(lián)系日益緊密?！皣鴥妊芯科鸩捷^晚，大氣壓放電電暈的科技開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)布局相分離，限制了這項綠色節能無(wú)污染技能的廣泛使用?！敝袊姽ぜ寄軐W(xué)會(huì )副秘書(shū)長(cháng)奚大華表示，針對這一情況，現在很多科研單位都在就此問(wèn)題進(jìn)行聯(lián)合研討?！?。
電暈采用數控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；采用高精度控制裝置，時(shí)間控制精度很高；正確的電暈清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；不污染環(huán)境，確保清潔后的表面不受二次污染。隨著(zhù)電子信息產(chǎn)業(yè)，特別是通信產(chǎn)品、計算機及元器件、半導體、液晶和光電子產(chǎn)品的發(fā)展，超精密工業(yè)清洗設備和高附加值設備的比重逐步提高。電暈設備已成為它是許多電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎設備。
電暈清洗還具有以下特點(diǎn)：易于采用數控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；采用高精度控制裝置，時(shí)間控制精度很高；正確的電暈清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，確保清洗面不受二次污染。。
一種高阻隔共擠膜電暈處理裝置
與其它電暈清洗裝置相比，電暈處理的機理該裝置的優(yōu)點(diǎn)是放電非常穩定。當玻璃在其上方或在其上方運動(dòng)時(shí)，電暈對玻璃表面進(jìn)行有效轟擊，從而達到在線(xiàn)清洗的目的。與其它電暈清洗裝置相比，該裝置具有放電非常穩定，適用于連續生產(chǎn)場(chǎng)合的優(yōu)點(diǎn)；排放區域限定在一定方向，不會(huì )產(chǎn)生二次污染；放電相當均勻，有利于大面積基片的在線(xiàn)均勻清洗。
