等離子體清洗機的幾種頻率區別與運用

常用的等離子體激起頻率有三種：激起頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。不平等離子體發(fā)生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只要幾十伏，而且三種等離子體的機制不同。

超聲等離子體發(fā)作的反響為物理反響，射頻等離子體發(fā)作的反響既有物理反響又有化學(xué)反響，微波等離子體發(fā)作的反響為化學(xué)反響。超聲等離子體清洗對被清潔外表發(fā)生的影響最大，因而實(shí)踐半導體生產(chǎn)使用中大多選用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則使用于外表除膠、毛刺打磨等處理方面作用最佳，典型的等離子體物理清洗工藝是在反響腔體中加入氬氣作為輔佐處理的等離子體清洗；氬氣自身是惰性氣體，等離子體的氬氣不好外表發(fā)作反響，而是經(jīng)過(guò)離子轟擊使外表清潔。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。經(jīng)過(guò)等離子體發(fā)生的氧自由基十分生動(dòng)，簡(jiǎn)單與碳氫化合物發(fā)作反響，發(fā)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，然后去除外表的污染物。

以物理反響為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點(diǎn)在于自身不發(fā)作化學(xué)反響，清潔外表不會(huì )留下任何的氧化物，能夠保持被清洗物的化學(xué)純凈性，還有一種等離子體清洗是外表反響機制中物理反響和化學(xué)反響都起重要作用，即反響離子腐蝕或反響離子束腐蝕，兩種清洗能夠互相促進(jìn)，離子轟擊使被清洗表面發(fā)生損傷削弱其化學(xué)鍵或許形成原子態(tài)，簡(jiǎn)單吸收反響劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更簡(jiǎn)單發(fā)生反響。選用40KHZ超聲等離子再加入適當的反響氣體，能夠有效去除膠質(zhì)殘渣、金屬毛刺等等，因為40KHz為較早的技術(shù)，其射頻匹配后能量消耗過(guò)大，實(shí)踐作用到清洗物上的能量不足原有能量的1/3。 所以實(shí)踐使用中大多選用13.56MHz射頻等離子體清洗，這個(gè)頻率也是現在國際上最流行的。2.45G的微波等離子大多使用于某些有特殊需求的科研及試驗室。

金徠科技等離子清洗設備選用13.56MHz射頻電源，是針對于高校，科學(xué)研究所和企業(yè)試驗室，或許小批量生產(chǎn)的立異性企業(yè)而研制的立異型試驗渠道。依據很多客戶(hù)使用信息，剖析使用需求，將多年規劃和制作經(jīng)驗使用于小型化，多功能的等離子體外表處理設備。無(wú)論是規劃理念，零配件的選用，都傾注很多精力。針對用戶(hù)不同的需求，我們供給對應配件，在獲得常規等離子清洗機性能的一起，具有外表鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學(xué)反響，粉體等離子體處理等多種才能。