金徠JAV系列低溫等離子表面處理設備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統、充氣系統、自動(dòng)控制系統等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達到0.02-0.03mbar 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進(jìn)行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)）。高頻發(fā)生器提供能量使氣體電離成等離子態(tài)。等離子態(tài)顯著(zhù)的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電，根據不同氣體發(fā)出從藍色到深紫色的色彩可見(jiàn)光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

等離子處理的工藝：

表面激活Surface Activation

表面清潔Surface Cleaning

顯微蝕刻Micro Etching

等離子接枝、聚合Plasma Polymerization

上述作用離子直接和處理物表面外層10 到1000A 厚度起作用，不影響材料其本身性能。

等離子處理的優(yōu)點(diǎn)：

1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過(guò)程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無(wú)污染。

2.廣適性：不分處理對象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現整體和局部以及復雜結構的清洗改性。

3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長(cháng)保存時(shí)間和較高表面張力。

4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；

5.低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì )大大低于濕法清洗。

6.全過(guò)程可控工藝：所有參數可由電腦設置和數據記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。

7.處理物幾何形狀無(wú)限制：大或小，簡(jiǎn)單或復雜，部件或紡織品，均可處理。

等離子清洗機分類(lèi)

1.按反應類(lèi)型

等離子體與固體表面發(fā)生反應可以分為物理反應（離子轟擊）和化學(xué)反應。物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面zui終被真空泵吸走；化學(xué)反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。

以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應，清潔表面不會(huì )留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性，腐蝕作用各向異性；缺點(diǎn)就是對表面產(chǎn)生了很大的損害，會(huì )產(chǎn)生很大的熱效應，對被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差，腐蝕速度較低。以化學(xué)反應為主的等離子體清洗的優(yōu)點(diǎn)是清洗速度較高、選擇性好、對清除有機污染物比較有效，缺點(diǎn)是會(huì )在表面產(chǎn)生氧化物。和物理反應相比較，化學(xué)反應的缺點(diǎn)不易克服。并且兩種反應機制對表面微觀(guān)形貌造成的影響有顯著(zhù)不同，物理反應能夠使表面在分子級范圍內變得更加“粗糙”，從而改變表面的粘接特性。還有一種等離子體清洗是表面反應機制中物理反應和化學(xué)反應都起重要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進(jìn)，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應；其效果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。

典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應，而是通過(guò)離子轟擊使表面清潔。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過(guò)等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫?，容易與碳氫化合物發(fā)生反應，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。等離子

2.按激發(fā)頻率分類(lèi)

常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為 40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。

不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機制不同。超聲等離子體發(fā)生的反應為物理反應，射頻等離子體發(fā)生的反應既有物理反應又有化學(xué)反應，微波等離子體發(fā)生的反應為化學(xué)反應。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響zui大，因而實(shí)際半導體生產(chǎn)應用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。

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